News & Events

Tương lai không cần mặt nạ? Hệ thống E-Beam Ghi trực tiếp Nội địa của Hong Kong NTI Tiến vào Đấu trường Chế tạo Nano
Hong Kong NTI Limited ra mắt EBeam50, hệ thống EBL Direct-Write tự phát triển cho chế tạo chip dưới 10 nm. Thiết bị giúp kết nối R&D với tạo mẫu thử nghiệm trong các lĩnh vực quang tử, lượng tử và bán dẫn thế hệ mới.
13 ส.ค. 2026
Novel Hyperspectral Microsystem: Chụp ảnh và phân tích trong một hệ thống
Hệ thống kính hiển vi siêu phổ mới tích hợp chụp ảnh, xử lý và phân tích trên một nền tảng cho sinh học, khoa học vật liệu và công nghệ nano.
6 ส.ค. 2026
Máy Đo Độ Cứng Rockwell và Superficial Rockwell Kỹ Thuật Số Tự Động: Tổng Quan Kỹ Thuật Dòng 420HRS-150Z / 420HRSS-150Z
Kiểm tra Rockwell truyền thống đo độ cứng tại một điểm, trong khi kiểm tra hiện đại đánh giá độ đồng đều, lớp bề mặt và độ sâu.
30 ก.ค. 2026

Vibration Isolators

Active Vibration Isolator
Bộ cách ly rung động chủ động là hệ thống ngăn chặn rung động sử dụng điều khiển thông qua cảm biến và bộ truyền động làm việc với vòng điều khiển phản hồi để điều chỉnh lực hỗ trợ của bệ cách ly theo thời gian thực.
23 ธ.ค. 2025

Lithography

Maskless Lithography
Maskless Lithography là công nghệ được sử dụng để tạo các mẫu trên bề mặt vật liệu ở cấp độ vi mô và nano mà không cần sử dụng mặt nạ quang học truyền thống hoặc bản mẫu vật lý để định vị.
23 ธ.ค. 2025
This website uses cookies for best user experience, to find out more you can go to our Privacy Policy and Cookies Policy
Powered By MakeWebEasy Logo MakeWebEasy