News & Events

Hong Kong NTI Limited ra mắt EBeam50, hệ thống EBL Direct-Write tự phát triển cho chế tạo chip dưới 10 nm. Thiết bị giúp kết nối R&D với tạo mẫu thử nghiệm trong các lĩnh vực quang tử, lượng tử và bán dẫn thế hệ mới.

Hệ thống kính hiển vi siêu phổ mới tích hợp chụp ảnh, xử lý và phân tích trên một nền tảng cho sinh học, khoa học vật liệu và công nghệ nano.

Kiểm tra Rockwell truyền thống đo độ cứng tại một điểm, trong khi kiểm tra hiện đại đánh giá độ đồng đều, lớp bề mặt và độ sâu.

Kiểm tra Rockwell truyền thống đo độ cứng tại một điểm, trong khi kiểm tra hiện đại đánh giá độ đồng đều, lớp bề mặt và độ sâu.

Bộ cách ly rung động chủ động là hệ thống ngăn chặn rung động sử dụng điều khiển thông qua cảm biến và bộ truyền động làm việc với vòng điều khiển phản hồi để điều chỉnh lực hỗ trợ của bệ cách ly theo thời gian thực.

Maskless Lithography là công nghệ được sử dụng để tạo các mẫu trên bề mặt vật liệu ở cấp độ vi mô và nano mà không cần sử dụng mặt nạ quang học truyền thống hoặc bản mẫu vật lý để định vị.