Maskless Lithography là gì và có thể làm gì?

Nguyên lý hoạt động cơ bản và cơ chế của công nghệ Maskless Lithography

Maskless Lithography có thể được sử dụng để làm gì?

Các quy trình sản xuất cấp độ vi mô và nano đòi hỏi công cụ hiệu quả, làm cho Maskless Lithography trở thành công cụ rất phù hợp, đặc biệt trong các ngành công nghiệp khác nhau như:

• Nghiên cứu và Phát triển (R&D): Phù hợp cho việc tạo nguyên mẫu và thử nghiệm đòi hỏi nhiều thay đổi mẫu cấp độ vi mô và nano để có kết quả thử nghiệm tiêu chuẩn.
• Ngành Công nghiệp Bán dẫn: Được sử dụng để tạo các mẫu mạch điện trên chip máy tính (IC) và thiết bị điện tử.
• Hệ thống Cơ điện Nano (NEMS) và Vi mô (MEMS): Được sử dụng để sản xuất các cấu trúc và thiết bị rất nhỏ.

Lợi ích của việc sử dụng Maskless Lithography

Sử dụng Maskless Lithography trong công việc cấp độ vi mô và nano mang lại nhiều lợi ích trong nhiều khía cạnh, chẳng hạn như:

Công cụ có Tính linh hoạt cao hơn: Có thể dễ dàng và nhanh chóng thay đổi các mẫu hoặc thiết kế thông qua phần mềm mà không cần bản mẫu hoặc mặt nạ quang học mới.
Tiết kiệm Thời gian và Chi phí lớn hơn: Giúp giảm các bước và chi phí liên quan đến sản xuất mặt nạ quang học mới, vốn mất nhiều thời gian và tốn kém.
Độ phân giải cao: Có thể tạo các cấu trúc rất nhỏ ở cấp độ nanomet.

CIL Series Compact Interference Nanopatterning Tool là gì?

CIL là công cụ tạo mẫu cấu trúc nano sử dụng công nghệ Interference Lithography hoặc giao thoa ánh sáng để tạo các mẫu cấp độ nano trên vật liệu. Đây là hệ thống được thiết kế nhỏ gọn, hiệu quả về chi phí, và cho phép điều chỉnh tần số mẫu dễ dàng hơn.

Các tính năng chính của CIL bao gồm:

Có thể tạo các mẫu 1D và 2D đa dạng như đường thẳng, chấm nano, hình lưới, và mẫu bàn cờ.
Hỗ trợ tạo mẫu trên bề mặt rộng đến vài centimet trong một lần phơi sáng duy nhất.
Độ phân giải mẫu đạt được dưới 100 nanomet với độ rộng đường tối thiểu khoảng 40 nanomet.
Kết hợp với các mẫu có tỷ lệ khung hình cao (chiều cao trên chiều rộng), phù hợp với công việc quy trình liên tục như khắc axit hoặc phủ bề mặt.
Hệ thống điều khiển sử dụng PLC để quản lý các bước phơi sáng với giao diện dễ sử dụng có thể học nhanh.
Các module để sửa đổi mẫu nhanh chóng và bệ độ chính xác cao để nâng cao hiệu quả sản xuất các mẫu khác nhau.

Nanofabrication bao gồm những gì?

Nanofabrication là một quy trình hoặc kỹ thuật được sử dụng để tạo vật liệu, cấu trúc, hoặc thiết bị ở cấp độ nanomet. Có thể lấy vật liệu lớn và khắc hoặc giảm chúng hoặc xác định các mẫu nhỏ hơn, chẳng hạn như Maskless Lithography, Photolithography, Electron Beam Lithography, và Nanoimprint.

Nanoimprint là gì?

Nanoimprint Lithography (NIL) là một quy trình Nanolithography đơn giản, chi phí thấp, và cung cấp độ phân giải cao trong việc sản xuất các mẫu cấp độ nanomet.

Nguyên lý hoạt động: Sử dụng khuôn có các mẫu cấp độ nanomet ép xuống lớp chất cảm in (imprint resist), là chất monomer hoặc polymer trên bề mặt.

Sau khi ép, quá trình đóng rắn được thực hiện bằng nhiệt hoặc tia UV để làm cứng chất cảm in và duy trì hình dạng theo khuôn.

Sau đó, khuôn được nhấc ra, tạo ra các mẫu nano mong muốn.

Ứng dụng: Được sử dụng trong sản xuất bán dẫn, công nghệ hiển thị (OLED, Micro-LED), cảm biến, và thiết bị sinh học.

Hong Kong NTI phân phối thiết bị Lithography

Bởi vì thiết bị Lithography, bao gồm Maskless Lithography, rất quan trọng cả trong phòng thí nghiệm và các ngành công nghiệp tiên tiến cấp độ vi mô và nano, chúng tôi tại Hong Kong NTI cung cấp dịch vụ và phân phối thiết bị hiệu suất cao từ các thương hiệu hàng đầu trong ngành. Với hơn 16 năm chuyên môn toàn cầu, chúng tôi cung cấp thiết bị và dịch vụ cho nghiên cứu và phát triển hiệu quả.

Nếu quan tâm, bạn có thể liên hệ với chúng tôi tại: 725 Tòa nhà S-Metro, Tầng 20, Đường Sukhumvit, Khlong Tan Nuea, Watthana, Bangkok

Điện thoại: 02-821-5278

Email: info@hknti.com

Line: https://line.me/R/ti/p/@816txpya