ข่าวสาร & กิจกรรม

Hong Kong NTI Limited เปิดตัว EBeam50 เครื่อง EBL ที่พัฒนาเองสำหรับผลิตชิปเล็กกว่า 10 nm ช่วยเชื่อมงาน R&D สู่การสร้างชิปต้นแบบทั้งด้านควอนตัม โฟโทนิกส์ และเซมิคอนดักเตอร์

ระบบไมโครสโคปีไฮเปอร์สเปกตรัมรุ่นใหม่ รวมการถ่ายภาพ การประมวลผล และการวิเคราะห์ในแพลตฟอร์มเดียว รองรับงานวิจัยด้านชีววิทยา วัสดุศาสตร์ และนาโนเทคโนโลยี

การทดสอบ Rockwell แบบดั้งเดิมวัดความแข็งเพียงจุดเดียว ขณะที่งานตรวจสอบสมัยใหม่ต้องประเมิน ความสม่ำเสมอของความแข็ง ชั้นผิว และความลึก

การทดสอบ Rockwell แบบดั้งเดิมวัดความแข็งเพียงจุดเดียว ขณะที่งานตรวจสอบสมัยใหม่ต้องประเมิน ความสม่ำเสมอของความแข็ง ชั้นผิว และความลึก

ระบบ Active Vibration Isolators เป็นระบบป้องกันแรงสั่นโดยใช้การควบคุมอุปกรณ์เซ็นเซอร์และ actuator ทำงานร่วมกับวงจรป้อนกลับให้สามารถปรับแรงรองรับของแท่นกันสั่น

Maskless Lithography คือเทคโนโลยีที่ใช้ในการสร้างลวดลายบนพื้นผิววัสดุระดับไมโครและนาโนโดยไม่จำเป็นต้องใช้โฟโตมาสก์ที่เป็นแม่แบบทางกายภาพดั้งเดิมหรือไม่ใช้แผ่นแม่แบบในการกำหนดตำแหน่ง