News & Events

Hong Kong NTI Limited melancarkan EBeam50, platform EBL Direct-Write buatan sendiri untuk pembuatan cip bawah 10 nm. Ia merapatkan R&D dengan pembuatan prototaip dalam bidang kuantum, fotonik, dan semikonduktor generasi baharu.

Sistem mikroskopi hiperspektrum baharu menggabungkan pengimejan, pemprosesan dan analisis dalam satu platform untuk biologi, sains bahan dan nanoteknologi.

Ujian Rockwell konvensional mengukur kekerasan pada satu titik, manakala pemeriksaan moden menilai keseragaman kekerasan, lapisan permukaan dan kedalaman.

Ujian Rockwell konvensional mengukur kekerasan pada satu titik, manakala pemeriksaan moden menilai keseragaman kekerasan, lapisan permukaan dan kedalaman.

Pengasing Getaran Aktif adalah sistem pencegahan getaran yang menggunakan kawalan melalui penderia dan penggerak yang bekerja dengan gelung kawalan maklum balas untuk menyesuaikan daya sokongan platform pengasingan secara masa nyata.

Maskless Lithography adalah teknologi yang digunakan untuk mencipta corak pada permukaan bahan di peringkat mikro dan nano tanpa memerlukan topeng foto fizikal tradisional atau plat templat untuk penentuan kedudukan.