Maskless Lithography คืออะไร ทำอะไรได้บ้าง?

เรา Hong Kong NTI จะมาอธิบายเพิ่มเติมเกี่ยวกับหลักการทำงานและกลไก การใช้งาน ประโยชน์ของการใช้งาน รวมถึงจะพาไปรู้จักเกี่ยวกับ Nanofabrication และ Nanoimprint ด้วยเช่นกัน
หลักการทำงานพื้นฐานและกลไกของเทคโนโลยี Maskless Lithography
หลักการทำงานและกลไกของเทคโนโลยี Maskless Lithography จะเป็นการใช้การฉายรังสีเป็นหลัก เช่น รังสี UV ลำแสงอิเล็กตรอน หรือการใช้ลำแสงไอออน ร่วมกับเครื่องมือที่ติดตั้งบนกล้องจุลทรรศน์ ทำให้การผลิตลวดลายบนวัสดุสามารถทำได้โดยไม่ต้องใช้แผ่นแม่แบบ ลดกระบวนการที่ซับซ้อนลง รวมถึงลดต้นทุนของแผ่นแม่แบบลงไปได้ เมื่อเทียบกับระบบ Lithography แบบใช้แผ่นแม่แบบทั่วไปMaskless Lithography ใช้ทำอะไรได้บ้าง
กระบวนการผลิตระดับไมโครและนาโน จะต้องใช้เครื่องมือที่มีประสิทธิภาพ ทำให้ Maskless Lithography จะเป็นเครื่องมือที่เหมาะมากโดยเฉพาะในอุตสาหกรรมต่างๆ เช่น- การวิจัยและพัฒนา (R&D) เหมาะสำหรับการสร้างต้นแบบและการทดลอง ที่ต้องมีการเปลี่ยนลวดลายระดับไมโครและนาโนหลายครั้งเพื่อผลการทดลองที่ได้มาตรฐาน
- อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ (Semiconductor) จะใช้สำหรับการสร้างลวดลายวงจรไฟฟ้าบนชิปของคอมพิวเตอร์ (IC) และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์
- เครื่องกลไฟฟ้าขนาดนาโน (NEMS) และไมโคร (MEMS) ใช้สำหรับผลิตโครงสร้างและอุปกรณ์ที่มีขนาดเล็กมาก
ประโยชน์ของการใช้ Maskless Lithography
การใช้ Maskless Lithography ในงานระดับไมโครและนาโน จะให้ประโยชน์มากมายหลายด้านที่มากกว่า ยกตัวอย่างเช่น- เป็นเครื่องมือที่ให้ความยืดหยุ่นสูงกว่า เพราะสามารถเปลี่ยนรูปแบบ ลวดลายหรือการออกแบบได้อย่างง่ายและรวดเร็วมากกว่าผ่านซอฟต์แวร์โดยไม่ต้องใช้แม่แบบหรือโฟโตมาสก์ใหม่
- ประหยัดเวลาและต้นทุนได้มากกว่า จะช่วยลดขั้นตอนและค่าใช้จ่ายเกี่ยวกับการผลิตโฟโตมาสก์ใหม่ ซึ่งใช้เวลานานและมีค่าใช้จ่ายที่แพง
- ห้ความละเอียดสูง และสามารถสร้างโครงสร้างที่มีขนาดเล็กมากระดับนาโนเมตรได้
CIL Series Compact Interference Nanopatterning Tool คืออะไร
CIL จะเป็นเครื่องมือวางโครงสร้างนาโนที่ใช้เทคโนโลยี Interference Lithography หรือแบบรบกวนแสงในการสร้างลวดลายระดับนาโนบนวัสดุ ซึ่งจะเป็นระบบที่ออกแบบมาให้มีขนาดกะทัดรัด คุ้มค่า และสามารถปรับความถี่ของลวดลายได้ง่ายมากยิ่งขึ้น
จุดเด่นของ CIL จะมีด้วยกันดังนี้
สามารถสร้างลวดลายแบบ 1D และ 2D ที่หลากหลาย เช่น รูปแบบเส้นตรง จุดนาโน รูปกริด และรูแบบหมากรุก
รองรับการสร้างลวดลายบนพื้นผิวขนาดกว้างถึงเซนติเมตร ในการฉายแสงเพียงครั้งเดียว
ความละเอียดของลวดลายที่สามารถทำได้ต่ำกว่า 100 นาโนเมตร โดยมีความกว้างของเส้นสั้นสุดประมาณ 40 นาโนเมตร
ร่วมกับรูปแบบลวดลายที่มีอัตราส่วนความสูงต่อความกว้างสูง ซึ่งเหมาะกับงานกระบวนการต่อเนื่อง เช่น การกัดกร่อนหรือการเคลือบผิว
ระบบควบคุมที่ใช้ PLC เพื่อจัดการขั้นตอนการฉายแสง พร้อมอินเทอร์เฟซที่ใช้งานง่ายและสามารถเรียนรู้ได้เร็ว
มีโมดูลสำหรับปรับเปลี่ยนรูปแบบลวดลายอย่างรวดเร็วและเวทีความแม่นยำสูง ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพในการผลิตลวดลายต่างๆ

Nanofabrication มีอะไรบ้าง
Nanofabrication จะเป็นกระบวนการหรือเทคนิคที่ใช้ในการสร้างวัสดุ โครงสร้างหรืออุปกรณ์ระดับนาโนเมตร โดยสามารถนำวัสดุขนาดใหญ่มาแกะสลักลดขนาดหรือกำหนดลวดลายให้เล็กลง เช่น Maskless Lithography, Photolithography, Electron Beam Lithography รวมถึง Nanoimprint ด้วยเช่นกันNanoimprint คืออะไร
Nanoimprint Lithography (NIL) เป็นกระบวนการ Nanolithography ที่ง่าย ต้นทุนต่ำ และให้ความละเอียดสูง ในการผลิตรูปแบบขนาดนาโนเมตรหลักการทำงาน จะใช้ แม่พิมพ์ที่มีลวดลายขนาดนาโนเมตรกดลงบนชั้นของสารไวพิมพ์ (imprint resist) ซึ่งเป็นสารจำพวกโมโนเมอร์หรือโพลีเมอร์ที่อยู่บนพื้นผิว
เมื่อกดแล้วจะมีการบ่มด้วยความร้อนหรือแสง UV เพื่อทำให้สารไวพิมพ์แข็งตัวและคงรูปร่างตามแม่พิมพ์เอาไว้
หลังจากนั้นจึงยกแม่พิมพ์ออก ก็จะได้ลวดลายนาโนตามที่ต้องการ
การใช้งาน ใช้ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์, เทคโนโลยีจอแสดงผล (OLED, Micro-LED), เซนเซอร์, และอุปกรณ์ชีวภาพ
Hong Kong NTI จัดจำหน่ายเครื่องมือ Lithography
เพราะเครื่องมือ Lithography รวมถึง Maskless Lithography จะเป็นเครื่องมือที่สำคัญมากทั้งในห้องปฏิบัติการรวมถึงในอุตสาหกรรมขั้นสูงระดับไมโครและนาโน เรา Hong Kong NTI มีบริการและจัดจำหน่ายเครื่องมือที่มีประสิทธิภาพสูงแบรนด์ชั้นนำในอุตสาหกรรม ด้วยความเชี่ยวชาญระดับโลกกว่า 16 ปีที่เราส่งมอบเครื่องมือและบริการ เพื่อการวิจัยและการพัฒนาอย่างมีประสิทธิภาพหากสนใจ สามารถติดต่อเราได้ที่ 725 อาคารเอส-เมโทร ชั้น 20, ถนนสุขุมวิท, คลองตันเหนือ, วัฒนา, กรุงเทพฯ
โทร: 02-821-5278
อีเมล: info@hknti.com
Line: https://line.me/R/ti/p/@816txpya


