Apakah Maskless Lithography dan Apa yang Boleh Dilakukan?
Kami di Hong Kong NTI akan menerangkan lebih lanjut mengenai prinsip kerja dan mekanisme, aplikasi, manfaat penggunaan, dan memperkenalkan anda kepada Nanofabrication dan Nanoimprint juga.
Prinsip Kerja Asas dan Mekanisme Teknologi Maskless Lithography
Prinsip kerja dan mekanisme teknologi Maskless Lithography terutamanya menggunakan unjuran sinaran seperti sinaran UV, rasuk elektron, atau rasuk ion digabungkan dengan peralatan yang dipasang pada mikroskop. Ini membolehkan pengeluaran corak pada bahan tanpa menggunakan plat templat, mengurangkan proses yang kompleks dan menurunkan kos plat templat berbanding sistem Lithography konvensional yang menggunakan plat templat.Untuk Apa Maskless Lithography Boleh Digunakan?
Proses pembuatan peringkat mikro dan nano memerlukan alat yang cekap, menjadikan Maskless Lithography alat yang sangat sesuai, terutamanya dalam pelbagai industri seperti:- Penyelidikan dan Pembangunan (R&D): Sesuai untuk prototaip dan eksperimen yang memerlukan banyak perubahan corak peringkat mikro dan nano untuk keputusan eksperimen yang standard.
- Industri Semikonduktor: Digunakan untuk mencipta corak litar elektrik pada cip komputer (IC) dan peranti elektronik.
- Sistem Elektromekanikal Nano (NEMS) dan Mikro (MEMS): Digunakan untuk menghasilkan struktur dan peranti yang sangat kecil.
Manfaat Menggunakan Maskless Lithography
Menggunakan Maskless Lithography dalam kerja peringkat mikro dan nano memberikan banyak manfaat dalam pelbagai aspek, seperti:- Alat dengan Fleksibiliti yang Lebih Tinggi: Boleh dengan mudah dan cepat menukar corak atau reka bentuk melalui perisian tanpa memerlukan templat atau topeng foto baharu.
- Penjimatan Masa dan Kos yang Lebih Besar: Membantu mengurangkan langkah dan perbelanjaan berkaitan dengan pengeluaran topeng foto baharu, yang mengambil masa lama dan mahal.
- Resolusi Tinggi: Boleh mencipta struktur yang sangat kecil pada tahap nanometer.
Apakah CIL Series Compact Interference Nanopatterning Tool?
CIL adalah alat pembentukan struktur nano yang menggunakan teknologi Interference Lithography atau gangguan cahaya untuk mencipta corak peringkat nano pada bahan. Ia adalah sistem yang direka bentuk untuk menjadi padat, berkesan kos, dan membolehkan penyesuaian frekuensi corak dengan lebih mudah.
Ciri-ciri Utama CIL termasuk:
Boleh mencipta pelbagai corak 1D dan 2D seperti garisan lurus, titik nano, bentuk grid, dan corak papan dam.
Menyokong penciptaan corak pada permukaan seluas beberapa sentimeter dalam satu pendedahan.
Resolusi corak yang boleh dicapai di bawah 100 nanometer dengan lebar garisan minimum kira-kira 40 nanometer.
Digabungkan dengan corak nisbah aspek tinggi (ketinggian kepada lebar), sesuai untuk kerja proses berterusan seperti menoreh atau salutan permukaan.
Sistem kawalan menggunakan PLC untuk menguruskan langkah pendedahan dengan antara muka yang mudah digunakan yang boleh dipelajari dengan cepat.
Modul untuk pengubahsuaian corak pantas dan peringkat ketepatan tinggi untuk meningkatkan kecekapan dalam menghasilkan pelbagai corak.
Apa yang Termasuk dalam Nanofabrication?
Nanofabrication adalah proses atau teknik yang digunakan untuk mencipta bahan, struktur, atau peranti pada tahap nanometer. Ia boleh mengambil bahan besar dan mengukir atau mengurangkan mereka atau menentukan corak yang lebih kecil, seperti Maskless Lithography, Photolithography, Electron Beam Lithography, dan Nanoimprint.
Apakah Nanoimprint?
Nanoimprint Lithography (NIL) adalah proses Nanolithography yang mudah, kos rendah, dan memberikan resolusi tinggi dalam menghasilkan corak berskala nanometer.
Prinsip kerja: Menggunakan acuan dengan corak berskala nanometer ditekan ke atas lapisan bahan tahan cetakan (imprint resist), iaitu bahan monomer atau polimer pada permukaan.
Selepas menekan, pengerasan dilakukan menggunakan haba atau cahaya UV untuk mengeraskan bahan tahan cetakan dan mengekalkan bentuk mengikut acuan.
Selepas itu, acuan diangkat, menghasilkan corak nano yang dikehendaki.
Aplikasi: Digunakan dalam pembuatan semikonduktor, teknologi paparan (OLED, Micro-LED), penderia, dan peranti biologi.
Hong Kong NTI Mengedarkan Peralatan Lithography
Kerana peralatan Lithography, termasuk Maskless Lithography, adalah penting dalam makmal dan industri maju peringkat mikro dan nano, kami di Hong Kong NTI menyediakan perkhidmatan dan mengedarkan peralatan berprestasi tinggi daripada jenama terkemuka dalam industri. Dengan lebih 16 tahun kepakaran global, kami menyampaikan peralatan dan perkhidmatan untuk penyelidikan dan pembangunan yang cekap.
Jika berminat, anda boleh menghubungi kami di: 725 Bangunan S-Metro, Tingkat 20, Jalan Sukhumvit, Khlong Tan Nuea, Watthana, Bangkok
Telefon: 02-821-5278
Email: info@hknti.com
