Micro-nano Fabrication
พบสินค้า 25 ชิ้น
เรียงตาม
ระบบ Ion Beam Etching (IBE) สำหรับงาน Micro-nano Fabrication และอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ให้การกัดที่แม่นยำสูง ควบคุมทิศทางได้ดี เหมาะสำหรับงานวิจัยและการผลิตขั้นสูง
Vacuum Pressure Nanoimprint System คือระบบพิมพ์ลวดลายระดับนาโนด้วยเทคโนโลยีสุญญากาศและแรงดันสูง ให้ความแม่นยำสูง ลดฟองอากาศ และเหมาะสำหรับงานวิจัย เซมิคอนดักเตอร์ โฟโตนิกส์ และไมโครนาโนแฟบริเคชัน
Fully Automatic Pneumatic Nanoimprint System คือระบบพิมพ์ลวดลายระดับนาโนแบบอัตโนมัติ ควบคุมแรงกดด้วยระบบลมอัด ให้ความแม่นยำสูง เหมาะสำหรับงานเซมิคอนดักเตอร์ โฟโตนิกส์ MEMS และการผลิตไมโคร-นาโนในระดับอุตสาหกรรม
Small Molecule Sublimation Purification Equipment ออกแบบสำหรับการทำบริสุทธิ์สารอินทรีย์โมเลกุลขนาดเล็ก เช่น วัสดุ OLED และสารกึ่งตัวนำอินทรีย์ ด้วยกระบวนการ sublimation ภายใต้สุญญากาศความแม่นยำสูง
EtchLab – 300 เป็นระบบ Reactive Ion Etching (RIE) สำหรับงานไมโครและนาโนแฟบริเคชัน รองรับการกัดผิว wafer และวัสดุต่าง ๆ ด้วย plasma ควบคุมความแม่นยำสูง เหมาะสำหรับมหาวิทยาลัยและห้องวิจัยเซมิคอนดักเตอร์
ICP Etching – 300 เป็นระบบ Inductively Coupled Plasma (ICP) สำหรับการกัดผิว wafer และวัสดุขั้นสูง รองรับงาน deep etching และโครงสร้างอัตราส่วนสูง เหมาะสำหรับ MEMS และงานวิจัยเซมิคอนดักเตอร์
บริการออกแบบและผลิตระบบ PVD/PLD แบบ Customized สำหรับงานเคลือบฟิล์มบาง งานวิจัยไมโคร-นาโน และอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ รองรับการปรับแต่ง chamber, target, substrate และ automation
Pioneer 120 Advanced PLD System เป็นระบบ Pulsed Laser Deposition (PLD) สำหรับงานเคลือบฟิล์มบางคุณภาพสูง รองรับงานวิจัยเซมิคอนดักเตอร์ วัสดุขั้นสูง และไมโคร-นาโนแฟบริเคชัน พร้อมระบบควบคุมความแม่นยำสูง
Pioneer 180 PLD System เป็นระบบ Pulsed Laser Deposition ประสิทธิภาพสูง รองรับการเคลือบฟิล์มบางคุณภาพสูง เช่น oxide, ferroelectric และ superconducting materials เหมาะสำหรับงานวิจัยเซมิคอนดักเตอร์และไมโคร-นาโน
SVAC-FilmLab-G คือระบบ PVD Thin Film Deposition สำหรับงานวิจัยไมโคร-นาโน และเซมิคอนดักเตอร์ รองรับการเคลือบฟิล์มบางแบบ sputtering ด้วยระบบสุญญากาศคุณภาพสูง เหมาะสำหรับห้องปฏิบัติการและอุตสาหกรรม
Primary Keywords
SVAC-FilmLab-B คือระบบ PVD Thin Film Deposition แบบกะทัดรัด เหมาะสำหรับห้องปฏิบัติการ มหาวิทยาลัย และงานวิจัยด้านเซมิคอนดักเตอร์ รองรับกระบวนการ sputtering และงานเคลือบฟิล์มบางคุณภาพสูง
SVAC-FilmLab-T คือระบบ PVD Thin Film Deposition แบบตั้งโต๊ะ เหมาะสำหรับห้องปฏิบัติการ มหาวิทยาลัย และงานวิจัยวัสดุ รองรับกระบวนการ sputtering ในแพลตฟอร์มขนาดกะทัดรัด ใช้งานง่าย และประหยัดพื้นที่
Nanoimprint Mold สำหรับกระบวนการ Nanoimprint Lithography (NIL) รองรับการสร้างโครงสร้างระดับนาโนเมตร ความละเอียดสูง เหมาะสำหรับงานวิจัย วัสดุขั้นสูง โฟโตนิกส์ และอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์
Wafer-Stepping Nanometer Imprint System สำหรับกระบวนการ Nanoimprint Lithography (NIL) รองรับการพิมพ์ลายระดับนาโนเมตรแบบ Step-and-Repeat บนเวเฟอร์ เหมาะสำหรับงาน Semiconductor, Photonics, LED และ R&D ขั้นสูง
Molecular Level Surface Treatment System สำหรับการปรับสภาพพื้นผิวระดับโมเลกุล เพิ่มการยึดเกาะและควบคุมคุณสมบัติผิว เหมาะสำหรับงาน Semiconductor, Nanoimprint Lithography, Photonics และวัสดุขั้นสูง
MakeWebEasy