Micro-nano Fabrication

Sistem Ion Beam Etching (IBE) berketepatan tinggi untuk fabrikasi mikro-nano dan industri semikonduktor. Penyelesaian dry etching yang stabil, tepat dan sesuai untuk makmal serta pengeluaran industri.

Vacuum Pressure Nanoimprint System ialah mesin litografi nanoimprint berketepatan tinggi menggunakan teknologi vakum dan tekanan terkawal untuk menghasilkan corak nano yang konsisten dan bebas gelembung. Sesuai untuk aplikasi semikonduktor, fotonik dan MEMS.

Fully Automatic Pneumatic Nanoimprint System ialah mesin litografi nanoimprint automatik dengan kawalan tekanan pneumatik untuk penghasilan corak nano berketepatan tinggi. Sesuai untuk aplikasi semikonduktor, fotonik, MEMS dan pengeluaran industri mikro-nano.

Peralatan Small Molecule Sublimation Purification membolehkan penulenan bahan organik molekul kecil melalui proses sublimasi terma di bawah vakum terkawal. Sesuai untuk bahan OLED dan penyelidikan bahan maju.

EtchLab – 300 ialah sistem Reactive Ion Etching (RIE) untuk fabrikasi mikro-nano dan pemprosesan wafer. Sesuai untuk makmal penyelidikan, cleanroom dan industri semikonduktor.

ICP Etching – 300 ialah sistem plasma ketumpatan tinggi untuk proses etching silikon mendalam dan struktur nisbah aspek tinggi. Sesuai untuk fabrikasi MEMS dan penyelidikan semikonduktor.

Sistem PVD/PLD yang direka khas untuk fabrikasi filem nipis, penyelidikan semikonduktor dan aplikasi mikro-nano. Boleh dikonfigurasi mengikut keperluan chamber, target dan automasi.

Pioneer 120 Advanced PLD System ialah sistem pemendapan filem nipis menggunakan teknologi Pulsed Laser Deposition, sesuai untuk penyelidikan bahan maju, semikonduktor dan fabrikasi mikro-nano.

Pioneer 180 PLD System ialah sistem pemendapan filem nipis menggunakan teknologi laser berketepatan tinggi, sesuai untuk penyelidikan bahan oksida, semikonduktor dan fabrikasi mikro-nano.

SVAC-FilmLab-G ialah sistem PVD dan sputtering berketepatan tinggi untuk fabrikasi filem nipis, penyelidikan semikonduktor dan aplikasi mikro-nano dalam makmal dan cleanroom.

SVAC-FilmLab-B ialah sistem PVD dan sputtering kompak yang direka untuk makmal universiti, penyelidikan semikonduktor dan fabrikasi mikro-nano dengan prestasi deposition yang stabil dan tepat.

SVAC-FilmLab-T ialah sistem PVD dan sputtering versi meja yang sesuai untuk makmal universiti dan penyelidikan bahan maju. Reka bentuk kompak dengan prestasi deposition yang stabil dan tepat.