Nanoimprint Mold สำหรับกระบวนการ Nanoimprint Lithography (NIL) รองรับการสร้างโครงสร้างระดับนาโนเมตร ความละเอียดสูง เหมาะสำหรับงานวิจัย วัสดุขั้นสูง โฟโตนิกส์ และอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์
Product Overview