Wafer-Stepping Nanometer Imprint System เครื่องนาโนอิมพรินต์แบบ Step-and-Repeat สำหรับเวเฟอร์ระดับนาโนเมตร

คำอธิบายสินค้าแบบย่อ

Wafer-Stepping Nanometer Imprint System สำหรับกระบวนการ Nanoimprint Lithography (NIL) รองรับการพิมพ์ลายระดับนาโนเมตรแบบ Step-and-Repeat บนเวเฟอร์ เหมาะสำหรับงาน Semiconductor, Photonics, LED และ R&D ขั้นสูง

หมวดหมู่: Product, Products Labs, Micro-nano Fabrication, Nanoimprint machine

Product Description

Specifications

Product Overview

Plate pressing | Air pressing | Roll pressing

Nanoimprint Technology matches different imprinting methods according to various industries and product applications.

For example:

Plate pressing: high-end semiconductors, microlenses, template splicing, high-precision alignment requirements

Air pressing: PSS, AR, biomedicine, photovoltaics, MLA, Meta Lens;

Roll pressing: AR, diffraction optics, surface relief

เครื่อง Wafer Nanoimprint Step-and-Repeat NIL System Nano Wafer Imprinter เครื่องพิมพ์ลายระดับนาโนบนเวเฟอร์ เครื่อง nanoimprint wafer Wafer stepping nano lithography Step and repeat nano imprint เครื่องพิมพ์ลายระดับนาโนเมตร ระบบ NIL สำหรับ semiconductor