Tổng quan về sản phẩm
Ép bản | Ép khí | Ép lô
Công nghệ in nano phù hợp với nhiều phương pháp in khác nhau theo nhiều ngành công nghiệp và ứng dụng sản phẩm.
Ví dụ:
Ép bản: chất bán dẫn cao cấp, thấu kính siêu nhỏ, ghép khuôn, yêu cầu căn chỉnh có độ chính xác cao
Ép khí: PSS, AR, y sinh học, quang điện, MLA, thấu kính Meta;
Ép lô: AR, quang học nhiễu xạ, tạo hình bề mặt
Thông tin cơ bản
Vệ sinh: Chuẩn bị các mẫu chất nền cần xử lý, phương pháp vệ sinh theo yêu cầu của mẫu;
Lọc: bộ lọc hữu cơ 0,22µm;
Phủ: 3000 vòng/phút, phủ quay trong 40 giây, đảm bảo rằng PL-R-AP đã được phủ;
Ép khuôn in nano;
Nguồn sáng: UVLED, 365nm, 20J/cm2 (60 giây, 0,5 W/cm2);
Tách khuôn mẫu khỏi mẫu sau khi chất chống dính đã đông cứng;
Đặc điểm
- Độ mờ thấp, không có hạt nano pha tạp
- Chỉ số khúc xạ cao
- Thích hợp cho các quy trình in nano
Thông số kỹ thuật
Technical Characteristics
Refractive Index Curve
Spin Curve
Application Cases
Pattern Profiles
Tải xuống (Tài liệu quảng cáo)
Các Sản Phẩm Liên Quan
Dịch vụ Khách hàng
Compare product
0/4
Remove all
Powered By
MakeWebEasy
MakeWebEasy