Mesin Nanoimprint (Sistem Cetakan Nano)



Gambaran Keseluruhan Produk

Menekan pinggan | Tekanan udara | Menekan gulung

Teknologi Nanoimprint memadankan kaedah pencetakan yang berbeza mengikut pelbagai industri dan aplikasi produk.

Contohnya :

Penekan plat: semikonduktor mewah, kanta mikro, penyambung templat, keperluan penjajaran ketepatan tinggi

Tekanan udara: PSS, AR, bioperubatan, fotovoltaik, MLA, Meta Lens;

Penekan gulung: AR, optik pembelauan, pelepasan permukaan

Maklumat Asas

Pembersihan: Sediakan sampel substrat yang perlu diproses, kaedah pembersihan adalah mengikut keperluan sampel;

Penapis: 0.22µm penapis organik;

Salutan : 3000rpm, salutan putaran selama 40 saat, pastikan PL-R-AP telah disalut;

Tekan acuan nanoimprint;

Sumber cahaya: UVLED, 365nm, 20J/cm2 (60s, 0.5 W/cm2);

Asingkan templat daripada sampel selepas rintangan telah sembuh;

Ciri-ciri

  • Jerebu rendah, tiada doping nanopartikel
  • Indeks biasan tinggi
  • Sesuai untuk proses cetakan nano

Spesifikasi

Technical Characteristics

Refractive Index Curve

Spin Curve

Application Cases

Pattern Profiles

Download (Brochure)

Surrounding Products

This website uses cookies for best user experience, to find out more you can go to our Privacy Policy and Cookies Policy
Compare product
0/4
Remove all
Compare
Powered By MakeWebEasy Logo MakeWebEasy