Nanoimprint machine
พบสินค้า 8 ชิ้น
เรียงตาม
Vacuum Pressure Nanoimprint System คือระบบพิมพ์ลวดลายระดับนาโนด้วยเทคโนโลยีสุญญากาศและแรงดันสูง ให้ความแม่นยำสูง ลดฟองอากาศ และเหมาะสำหรับงานวิจัย เซมิคอนดักเตอร์ โฟโตนิกส์ และไมโครนาโนแฟบริเคชัน
Fully Automatic Pneumatic Nanoimprint System คือระบบพิมพ์ลวดลายระดับนาโนแบบอัตโนมัติ ควบคุมแรงกดด้วยระบบลมอัด ให้ความแม่นยำสูง เหมาะสำหรับงานเซมิคอนดักเตอร์ โฟโตนิกส์ MEMS และการผลิตไมโคร-นาโนในระดับอุตสาหกรรม
Nanoimprint Mold สำหรับกระบวนการ Nanoimprint Lithography (NIL) รองรับการสร้างโครงสร้างระดับนาโนเมตร ความละเอียดสูง เหมาะสำหรับงานวิจัย วัสดุขั้นสูง โฟโตนิกส์ และอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์
Wafer-Stepping Nanometer Imprint System สำหรับกระบวนการ Nanoimprint Lithography (NIL) รองรับการพิมพ์ลายระดับนาโนเมตรแบบ Step-and-Repeat บนเวเฟอร์ เหมาะสำหรับงาน Semiconductor, Photonics, LED และ R&D ขั้นสูง
Molecular Level Surface Treatment System สำหรับการปรับสภาพพื้นผิวระดับโมเลกุล เพิ่มการยึดเกาะและควบคุมคุณสมบัติผิว เหมาะสำหรับงาน Semiconductor, Nanoimprint Lithography, Photonics และวัสดุขั้นสูง
ระบบ High-Precision Double-Sided Alignment Roller Nanoimprint สำหรับงานพิมพ์ลายระดับนาโนบนวัสดุสองด้าน ด้วยเทคโนโลยี Roller NIL และระบบ Alignment ความแม่นยำสูง เหมาะสำหรับ Flexible Electronics, Optical Film และ Micro-LED
Air Pressure Desktop Nanoimprint System สำหรับกระบวนการสร้างโครงสร้างระดับไมโครและนาโนบนพื้นผิววัสดุ เหมาะสำหรับงานวิจัยด้านนาโนเทคโนโลยี ไมโครแฟบริเคชัน เซมิคอนดักเตอร์ และการพัฒนาวัสดุขั้นสูง ให้ความแม่นยำสูงในการถ่ายทอดลวดลายระดับนาโน
MakeWebEasy