Nanoimprint machine
We have found 8 items
Sort by
Vacuum Pressure Nanoimprint System ialah mesin litografi nanoimprint berketepatan tinggi menggunakan teknologi vakum dan tekanan terkawal untuk menghasilkan corak nano yang konsisten dan bebas gelembung. Sesuai untuk aplikasi semikonduktor, fotonik dan MEMS.
Fully Automatic Pneumatic Nanoimprint System ialah mesin litografi nanoimprint automatik dengan kawalan tekanan pneumatik untuk penghasilan corak nano berketepatan tinggi. Sesuai untuk aplikasi semikonduktor, fotonik, MEMS dan pengeluaran industri mikro-nano.
Nanoimprint Mold direka untuk aplikasi Nanoimprint Lithography (NIL), membolehkan pemindahan corak nanostruktur berketepatan tinggi bagi semikonduktor, fotonik dan penyelidikan bahan maju.
Sistem Wafer-Stepping Nanometer Imprint untuk fabrikasi semikonduktor dan fotonik. Menyokong pemindahan corak nanometer berketepatan tinggi menggunakan teknologi Nanoimprint Lithography (NIL).
Sistem Molecular Level Surface Treatment untuk pengubahsuaian permukaan tahap molekul. Sesuai untuk aplikasi semikonduktor, nanoimprint lithography (NIL), fotonik dan bahan maju.
Sistem Nanoimprint Roller dengan penjajaran dua sisi berketepatan tinggi untuk aplikasi substrat fleksibel, filem optik, fotonik dan pembuatan Micro-LED. Direka untuk fabrikasi nano berskala besar.
Sistem nanoimprint desktop tekanan udara direka untuk pemindahan corak mikro dan nano pada permukaan bahan. Sesuai untuk penyelidikan nanoteknologi, fabrikasi semikonduktor, serta pembangunan bahan maju dalam makmal dan industri.
Sistem nanoimprint roller komposit direka untuk pemindahan corak nano secara berterusan menggunakan teknologi roll-to-roll nanoimprint lithography. Sesuai untuk pembuatan elektronik fleksibel, filem optik, dan fabrikasi mikro-nano berskala besar.
MakeWebEasy