Ebeam50

Hệ thống quang khắc bằng chùm tia điện tử

Hệ thống quang khắc bằng chùm tia điện tử ghi trực tiếp (Direct-write) dành cho chế tạo vi mô và nano với độ chính xác cao.

Cột quang điện tử

Nguồn electron phát xạ trường Schottky với dòng chùm tia có thể lựa chọn từ 20 pA đến 40 nA.

Bàn dịch chuyển chính xác cao

Định vị bằng giao thoa kế laser với hiệu chỉnh vòng kín (Closed-loop), hỗ trợ hành trình tối đa 100 mm, với các tùy chọn 150 / 200 mm.

Tạo & Điều khiển Mẫu

Tích hợp lập kế hoạch đường đi, hiệu chỉnh hiệu ứng lân cận (Proximity Effect), lấy nét tự động, hiệu chỉnh loạn thị và đo chiều cao trong một bộ phần mềm duy nhất.

Hiệu suất chính

Thông số

Hiệu suất

Độ rộng đường viết tối thiểu

< 10 nm

Độ chính xác chồng lớp mẫu

< ±20 nm

Độ chính xác ghép nối vùng viết

< ±20 nm

Vùng viết tối đa

1000 μm

Điện áp gia tốc

50 kV

Dòng chùm tia điện tử

20 pA–40 nA

Tốc độ quét tối đa

50 MHz

Tinh và Ổn định

Nguồn phát xạ trường Schottky mang lại độ sáng cao và độ phân tán năng lượng thấp. Chùm electron vẫn được hội tụ chính xác ngay cả ở dòng chùm tia thấp, hỗ trợ độ rộng đường viết dưới 10 nm và khả năng vận hành ổn định trong thời gian dài.

This website uses cookies for best user experience, to find out more you can go to our Privacy Policy and Cookies Policy
Powered By MakeWebEasy Logo MakeWebEasy