Hệ thống phơi sáng chùm tia điện tử Pharos310

Hệ thống phơi sáng chùm tia điện tử có thể điều khiển nội bộ của chúng tôi, Pharos E310, được thiết kế để ghi các đặc điểm nhỏ tới 40 nm trên các mẫu có đường kính lên tới 100 mm. Người dùng có thể tạo các tệp hình ảnh thiết kế bằng các trình chỉnh sửa như KLAYOUT và AutoCAD, sau đó thực hiện xử lý các cấu trúc vi mô và nano trên hệ thống Pharos E310.

Thông tin cơ bản

Các thành phần cơ bản của hệ thống quang khắc chùm tia điện tử là:

Khung cơ bản

phụ lục

Hướng ứng dụng

Công dụng: Thiết bị có chức năng chụp ảnh và đo lường độ phân giải cao; Có chức năng quang khắc chùm tia điện tử độ phân giải cao, có thể thực hiện thiết kế và xử lý các thiết bị nano diện tích lớn.

HỆ THỐNG QUANG HỌC ĐIỆN TỬ ：EOS

• Bộ phát nguồn điện tử: Bộ phát trường nhiệt (bộ phát ZrO2/W)
• Điện áp tăng tốc: 0,230 kV
• Hệ thống ống kính:
• Điển hình: Ống kính điện từ loại 3
• Màng chắn điện từ có thể điều khiển góc
• Achromatizer: Bộ khuếch tán điện từ Octapole
• Đường kính điểm tối thiểu: 3 nm
• Điện trở suất: 10pA đến 200nA
• Độ ổn định chùm tia: Chùm tia có thể ổn định trong thời gian dài, dao động nhiệt độ phòng thí nghiệm không quá ±0,2% mỗi giờ ở ± 0,5°C và độ ổn định chùm tia đo được không quá +/- 1% trong vòng 12 giờ
• Độ ổn định vị trí chùm tia: < ± 50 nm/3 giờ
• Chức năng quét và xoay: Có
• Cổng chùm tia điện tử
• Điển hình: Tĩnh điện - loại tốc độ cao
• tần số: 20 MHz
• Bộ phận làm lệch: Độ lệch từ quét 2 giai đoạn