Dòng VIL Tự động tạo mẫu nano giao thoa lặp lại từng bước

Thông tin cơ bản

Hệ thống tạo mẫu nano VIL 1000 sở hữu các chức năng mạnh mẽ, chẳng hạn như phân phối chùm tia có thể định cấu hình lại nhanh, ổn định mẫu giao thoa chủ động, phơi sáng từng bước và lặp lại với vị trí mẫu chính xác, v.v. Tất cả các chức năng đều được tự động hóa hoàn toàn thông qua phần mềm điều khiển thân thiện với người dùng độc quyền của chúng tôi là LithoPro. Sau khi mẫu được nạp, không cần thiết lập hoặc điều chỉnh thủ công nữa. Hệ thống có thể tạo ra nhiều cấu trúc nano khác nhau, chẳng hạn như các đường lưới 1D và các mẫu trụ/lỗ 2D với chu kỳ từ dưới 240 nm đến hơn 1500 nm trên diện tích lớn lên đến 8 inch thông qua các lần phơi sáng lặp lại bằng cách sử dụng các trường tạo mẫu có hình vuông 2cm x 2cm tiêu chuẩn hoặc các hình dạng do người dùng xác định. Mỗi trường tạo mẫu có thể chứa các cấu trúc nano với chu kỳ, mạng tinh thể và kích thước tính năng được thiết lập độc lập. Các mô-đun tùy chọn có sẵn cho các chức năng mở rộng của quang khắc tiếp xúc UV tích hợp, điều chế mẫu kích thước tính năng và mô phỏng quy trình quang khắc. VIL 1000 lý tưởng để sản xuất nhanh các thiết bị có nhiều vùng có hoa văn nano khác nhau, chẳng hạn như màn hình AR. Nó cũng hữu ích cho tham số.

Hướng ứng dụng

LẶP LẠI HOA VẼ NANO THEO BƯỚC VÀ LẶP LẠI

Mẫu VIL 1000 tiêu chuẩn hỗ trợ phơi sáng theo từng bước và lặp lại trên 4 tấm wafer với diện tích tạo hoa văn riêng lẻ lên đến 2 x 2 cm². Được nâng cấp với mô-đun định vị mẫu tiên tiến, diện tích tạo hoa văn có thể được mở rộng lên đến 6 hoặc 8 tấm wafer.

THIẾT LẬP MẪU TỰ ĐỘNG

Mô-đun phân phối chùm tia hoàn toàn bằng động cơ và giai đoạn định vị mẫu cung cấp tính linh hoạt tuyệt vời trong việc chế tạo các mẫu nano có nhiều chu kỳ và hình dạng khác nhau, bao gồm:

• Đường
• Trụ
• Lỗ
• Bàn cờ
• Thanh
• Và nhiều hình dạng khác

MÔ-ĐUN ĐIỀU CHỈNH KÍCH THƯỚC MẪU / MÔ-ĐUN PHƠI SÁNG MẶT NẠ UV

VIL 1000 có thể được nâng cấp bằng mô-đun điều chế kích thước mẫu để tinh chỉnh tỷ lệ lấp đầy của các cấu trúc 1D và 2D, cải thiện hơn nữa tính đồng nhất của mẫu và tạo ra sự phân bố không gian được thiết kế tùy ý của các kích thước tính năng. Mô-đun phơi sáng mặt nạ UV tùy chọn cũng khả dụng, tương thích với quang khắc tiếp xúc cho nhiều ứng dụng hơn.

KỸ THUẬT CỐT LÕI

• KỸ THUẬT LITHOGRAPH GIAO DIỆN (IL)
• PHÂN PHỐI CHÙM TÍNH CÓ THỂ CẤU HÌNH LẠI NHANH
• MẪU GIAO DIỆN CHỦ ĐỘNG ỔN ĐỊNH (AIPS)
• QUANG CƠ CHẾ CHÍNH XÁC
• ĐỊNH VỊ MẪU ĐA TRỤC

NGHIÊN CỨU TRƯỜNG HỢP ỨNG DỤNG

Các tấm nền sapphire có hoa văn (PSS): Đã phát triển theo hướng các đặc điểm nhỏ hơn ở cấp độ nano để cải thiện hiệu suất LED hơn nữa và khám phá các sản phẩm LED tiên tiến. VIL 1000 phù hợp để sản xuất các cấu trúc nano diện tích lớn được sử dụng trong PSS.

Các giao diện vi mô và nano có cấu trúc: Được ứng dụng rộng rãi trong các ứng dụng vi lưu và y sinh do thao tác với chất lỏng như làm ướt, vận chuyển, siêu kỵ nước, v.v. VIL 1000 hữu ích để chế tạo vi lưu và chip sinh học diện tích lớn nhằm đạt được khả năng phản hồi cao, chi phí thấp và các ứng dụng phòng thí nghiệm trên chip.

Các ống dẫn sóng nhiễu xạ: Được coi là công nghệ kết hợp thực tế tăng cường và thực tế hỗn hợp trưởng thành và đầy hứa hẹn nhất. VIL 1000 phù hợp để chế tạo các mạng lưới nano được sử dụng trong các ống dẫn sóng AR.