Nanopattern Gangguan Langkah-dan-Ulang Siri VIL Automatik

Penerangan Produk
Spesifikasi
Maklumat Asas

Sistem nanopattern VIL 1000 mempunyai fungsi yang berkuasa, seperti penghantaran rasuk boleh dikonfigurasikan semula dengan pantas, penstabilan corak gangguan aktif, pendedahan langkah-dan-ulang dengan kedudukan sampel yang tepat, dsb. Semua fungsi diautomasikan sepenuhnya melalui perisian kawalan mesra pengguna proprietari kami LithoPro. Selepas sampel dimuatkan, tiada lagi tetapan atau pelarasan manual diperlukan. Sistem ini boleh menghasilkan pelbagai struktur nano, seperti garisan parut 1D dan corak tiang/lubang 2D dengan tempoh dari bawah 240 nm hingga lebih 1500 nm pada kawasan besar sehingga 8 inci melalui pendedahan berulang menggunakan medan corak segi empat sama 2cm demi 2cm standard atau bentuk yang ditentukan pengguna. Setiap medan corak boleh mengandungi struktur nano dengan saiz berkala, kekisi dan ciri yang ditetapkan secara bebas. Modul pilihan tersedia untuk fungsi lanjutan fotolitografi sentuhan UV bersepadu, modulasi bercorak saiz ciri, dan simulasi proses litografi.
VIL 1000 sesuai untuk menghasilkan peranti dengan cepat dengan berbilang kawasan bercorak nano yang berbeza, seperti paparan AR. Ia juga berguna untuk param

Arahan Permohonan

LANGKAH DAN ULANGAN NANOPATTERNING

Model VIL 1000 standard menyokong pendedahan langkah-dan-ulang pada 4 wafer dengan kawasan corak individu sehingga 2 * 2 cm2 Ditingkatkan dengan modul penentududukan sampel lanjutan, kawasan corak boleh dilanjutkan sehingga 6 atau 8 skala wafer.

TETAPAN CORAK AUTOMATIK

Modul penghantaran rasuk bermotor sepenuhnya dan peringkat penentududukan sampel memberikan fleksibiliti yang hebat dalam menghasilkan corak nano pelbagai periodik dan geometri, termasuk garisan, tiang, lubang,
papan dam, joran, dsb.

MODULASI SAIZ CORAK/ MODUL PENDEDAHAN MASKER UV

VIL 1000 boleh dinaik taraf dengan modul modulasi saiz corak untuk memperhalusi nisbah pengisian struktur 1D dan 2D, meningkatkan lagi keseragaman corak dan menghasilkan pengedaran spatial yang direka bentuk sewenang-wenangnya bagi saiz ciri. The
modul pendedahan topeng UV pilihan juga tersedia, yang serasi dengan fotolitografi kenalan untuk pelbagai aplikasi yang lebih luas.

TEKNIK TERAS

LITOGRAFI GANGGUAN (IL)
PENGHANTARAN RASUK YANG BOLEH DIKONFIGURASI DENGAN PANTAS
CORAK GANGGUAN AKTIF
PENSTABILAN (AIPS)
OPTOMEKANIK KEPRESINAN
KEDUDUKAN CONTOH BERbilang paksi
TEKNIK TERAS

KAJIAN KES APLIKASI

Substrat nilam bercorak (PSS) telah berkembang ke arah ciri yang lebih kecil pada skala nano untuk meningkatkan lagi prestasi LED dan meneroka produk LED termaju. VIL 1000 sesuai untuk menghasilkan struktur nano kawasan besar yang digunakan dalam PSS.

Antara muka mikro dan berstruktur nano telah digunakan secara meluas dalam aplikasi mikrobendalir dan bioperubatan disebabkan oleh manipulasi cecair seperti pembasahan, pengangkutan, superhidrofobisiti, dsb. VIL 1000 kami berguna untuk mengarang mikrobendalir dan biocip kawasan besar untuk mencapai tindak balas tinggi, kos rendah dan aplikasi cip makmal.

Pandu gelombang difraktif dianggap sebagai teknologi penggabung realiti tambahan dan campuran yang paling matang dan menjanjikan. VIL 1000 adalah sesuai untuk membuat grating skala nano yang digunakan dalam pandu gelombang AR.