āļāđāļāļĄāļđāļĨāļāļ·āđāļāļāļēāļ
CIL āļāļĩāļĢāļĩāļŠāđāđāļāđāļāđāļāļĢāļ·āđāļāļāļĄāļ·āļ nanopatterning āđāļāļāļāļąāđāļāđāļāđāļ°āļāļĩāđāļāļļāđāļĄāļāđāļē āļāļĢāđāļāļĄāļāļēāļĢāļāļģāļŦāļāļāļāđāļēāļāļĩāđāđāļĢāļĩāļĒāļāļāđāļēāļĒāđāļĨāļ°āđāļāđāļāļēāļāļāđāļēāļĒ āļĢāļ°āļāļāļāļĩāđāđāļāđāļāļēāļĢāļāļģāļŦāļāļāļāđāļēāļāļĢāļ°āļāļāļāļāļ Lloyd āđāļāđāļāļ§āļēāļāļĄāļāđāļāļāļĢāđāļāļĩāđāļāļ§āļāļāļļāļĄāļāđāļ§āļĒāļāļāļĄāļāļīāļ§āđāļāļāļĢāđāļāđāļ§āļĒāđāļŦāđāļŠāļēāļĄāļēāļĢāļāļŠāļĢāđāļēāļ nanopatterns 1D āđāļĨāļ° 2D āļāļāļēāļāđāļāļāļāļīāđāļĄāļāļĢ āļāļĢāđāļāļĄāļāļēāļĢāļāļĢāļąāļāļāđāļ§āļāđāļ§āļĨāļēāļāļĩāđāļŠāļ°āļāļ§āļ
CIL āļāļĩāļĢāļĩāļŠāđāđāļŦāļĄāļēāļ°āļāļĩāđāļŠāļļāļāļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļĨāļđāļāļāđāļēāļāļĩāđāļĄāļĩāļāļāļāļĢāļ°āļĄāļēāļāļāļģāļāļąāļ āđāļāļāļāļ°āļāļĩāđāļĒāļąāļāļāļāļĢāļąāļāļĐāļēāļāļļāļāļ āļēāļ nanopatterning āļāļĩāđāļāđāļēāļāļāđāļ āļāļāļāļāļēāļāļāļĩāđāļĒāļąāļāđāļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļāļāļēāļĢāļāļķāļāļāļāļĢāļĄāļāđāļēāļāļāļēāļĢāļĻāļķāļāļĐāļēāđāļĨāļ°āļāļīāļāļāļĢāļĢāļĄ R&D āļāļąāđāļāļāļ·āđāļāļāļēāļ
āļāļīāļĻāļāļēāļāļāļēāļĢāđāļāđāļāļēāļ