CMP/EBL/CL

Cathodoluminescence Imaging System (CL) สำหรับการวิเคราะห์คุณสมบัติการเรืองแสงและโครงสร้างวัสดุระดับนาโน เหมาะสำหรับ Semiconductor, LED, Photonics และงานวิจัยวัสดุขั้นสูง

Cathodoluminescence Imaging and Spectral Detection System สำหรับการถ่ายภาพและวิเคราะห์สเปกตรัมเชิงลึกในระดับนาโน เหมาะสำหรับ Semiconductor, LED, GaN, SiC และงานวิจัยวัสดุขั้นสูง

Electron Beam Exposure System Pharos310 (EBL) สำหรับการสร้างลวดลายระดับนาโนเมตรความละเอียดสูง เหมาะสำหรับงานวิจัย Semiconductor, Nanophotonics, MEMS และ Advanced Materials