Micro-nano Fabrication

Mesin salutan sputtering berprestasi tinggi untuk pemendapan filem nipis dalam industri semikonduktor dan fabrikasi mikro-nano. Sistem PVD vakum dengan salutan seragam dan kawalan stabil.

Vacuum Pressure Nanoimprint System ialah mesin litografi nanoimprint berketepatan tinggi menggunakan teknologi vakum dan tekanan terkawal untuk menghasilkan corak nano yang konsisten dan bebas gelembung. Sesuai untuk aplikasi semikonduktor, fotonik dan MEMS.

Fully Automatic Pneumatic Nanoimprint System ialah mesin litografi nanoimprint automatik dengan kawalan tekanan pneumatik untuk penghasilan corak nano berketepatan tinggi. Sesuai untuk aplikasi semikonduktor, fotonik, MEMS dan pengeluaran industri mikro-nano.

Mesin air ozon kepekatan tinggi digunakan dalam industri semikonduktor untuk proses pembersihan wafer dan permukaan bahan. Teknologi ini membantu menyingkirkan pencemaran permukaan dengan lebih cekap serta mengurangkan penggunaan bahan kimia dalam proses fabrikasi.

Penjana ozon jenis plat dengan ketulenan dan kepekatan tinggi direka untuk industri semikonduktor dan mikroelektronik. Sistem ini menghasilkan ozon berkualiti tinggi untuk proses pembersihan, penghasilan air ozon dan aplikasi cleanroom.

Sistem nanoimprint desktop tekanan udara direka untuk pemindahan corak mikro dan nano pada permukaan bahan. Sesuai untuk penyelidikan nanoteknologi, fabrikasi semikonduktor, serta pembangunan bahan maju dalam makmal dan industri.

Sistem nanoimprint tahap wafer direka untuk pemindahan corak nano berketepatan tinggi pada wafer semikonduktor. Sesuai untuk fabrikasi mikro-nano, pembuatan semikonduktor dan penyelidikan nanoteknologi yang memerlukan replikasi struktur nano dengan ketepatan tinggi.

Sistem nanoimprint nanometer jenis wafer-stepping direka untuk menghasilkan corak nano berketepatan tinggi pada wafer semikonduktor. Sesuai untuk fabrikasi mikro-nano, pembuatan peranti semikonduktor, dan penyelidikan nanoteknologi.

Sistem nanoimprint roller komposit direka untuk pemindahan corak nano secara berterusan menggunakan teknologi roll-to-roll nanoimprint lithography. Sesuai untuk pembuatan elektronik fleksibel, filem optik, dan fabrikasi mikro-nano berskala besar.

Composite Roller Nanoimprint System ialah mesin nanoimprint berketepatan tinggi untuk proses fabrikasi mikro dan nano. Sistem ini menyokong teknologi roll-to-roll nanoimprint lithography bagi penghasilan struktur nano pada filem optik, sensor dan bahan elektronik canggih untuk penyelidikan dan pengeluaran industri.