ระบบกัดกร่อนด้วยลำไอออน (Ion Beam Etching – IBE)

คำอธิบายสินค้าแบบย่อ

ระบบ Ion Beam Etching (IBE) สำหรับงาน Micro-nano Fabrication และอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ให้การกัดที่แม่นยำสูง ควบคุมทิศทางได้ดี เหมาะสำหรับงานวิจัยและการผลิตขั้นสูง

รายการโปรด
This website uses cookies for best user experience, to find out more you can go to our Privacy Policy และ Cookies Policy
Powered By MakeWebEasy Logo MakeWebEasy