พบสินค้า 1 ชิ้น
เรียงตาม
ระบบ Ion Beam Etching (IBE) สำหรับงาน Micro-nano Fabrication และอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ให้การกัดที่แม่นยำสูง ควบคุมทิศทางได้ดี เหมาะสำหรับงานวิจัยและการผลิตขั้นสูง