ระบบกัดกร่อนด้วยลำไอออน (Ion Beam Etching – IBE)

ระบบ Ion Beam Etching (IBE) สำหรับงาน Micro-nano Fabrication และอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ให้การกัดที่แม่นยำสูง ควบคุมทิศทางได้ดี เหมาะสำหรับงานวิจัยและการผลิตขั้นสูง

หมวดหมู่ : Product , Products Labs , Micro-nano Fabrication , Ion Beam Etching (IBE Etching)

Product Description

Product Overview

เครื่อง IBE Ion Beam Etching เครื่องกัดลำไอออน เครื่อง Ion Milling เครื่องกัดเซมิคอนดักเตอร์ เครื่องกัดแห้ง (Dry Etching) เครื่องกัดฟิล์มบาง เครื่องผลิตไมโครนาโน ระบบ Ion Milling ห้องแล็บ

สินค้าที่เกี่ยวข้อง

โซลูชันระบบ Confocal Micro Raman & Photoluminescence (PL) แบบ Off-Line สำหรับงานสาธิตและสั่งทำพิเศษ (QC/QA/FA/RD)

ระบบให้ความร้อนพร้อมจ่ายไบอัสไฟฟ้าแบบอินซิทูสำหรับกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน (Electron Microscope In-Situ Bias Heating System)

ชิปและแท่นยึดให้ความร้อนแบบอินซิทู (In-Situ Heating Chips & Holders) สำหรับ SEM / TEM

ระบบ AFM แบบอินซิทูภายในกล้อง SEM (In Situ AFM in SEM System) สำหรับการวิเคราะห์ระดับไมโคร-นาโน

This website uses cookies for best user experience, to find out more you can go to our Privacy Policy และ Cookies Policy

เปรียบเทียบสินค้า

0/4

ลบทั้งหมด

เปรียบเทียบ

MakeWebEasy