HIL Series Wafer-Scale Nanopatterning System

ข้อมูลพื้นฐาน

ระบบ nanopatterning HIL 1000 มีฟังก์ชั่นอันทรงพลัง เช่น ความสามารถในการสร้าง nanopattern ระดับเวเฟอร์แบบ single-shot การส่งมอบลำแสงแบบปรับตั้งค่าใหม่กึ่งอัตโนมัติ การเสถียรภาพรูปแบบการรบกวนแบบแอคทีฟ ฯลฯ คุณสมบัติเหล่านี้ทั้งหมดถูกควบคุมโดยซอฟต์แวร์ที่เป็นกรรมสิทธิ์ของเราที่ใช้งานง่าย LithoPro ระบบสามารถผลิตโครงสร้างนาโนแบบเป็นคาบย่อย 50 นาโนเมตรบนพื้นที่ขนาดใหญ่ (สูงสุด 4 นิ้ว, ขนาดใหญ่กว่าสามารถทำได้) ภายในไม่กี่นาทีด้วยการเปิดรับแสงเพียงครั้งเดียว ผู้ใช้สามารถลดขนาดคุณสมบัติลงเหลือต่ำกว่า 20 นาโนเมตรได้ด้วยโปรโตคอลการประมวลผล nanofabrication เพิ่มเติมจาก InterLitho สนามการรับแสงระดับเวเฟอร์สามารถสร้างลวดลายด้วยโครงสร้างนาโน 1D หรือ 2D อเนกประสงค์ที่มีช่วงเวลาที่กำหนดไว้ ลายตาข่าย และขนาดคุณสมบัติ โมดูลเสริมมีให้ใช้งานสำหรับฟังก์ชั่นเพิ่มเติมของการปรับขนาดคุณสมบัติและจำลองกระบวนการ lithographic HIL 1000 เหมาะสำหรับการผลิตต้นแบบนาโนอิมพรินต์ระดับเวเฟอร์คุณภาพสูงสำหรับการวิจัยและพัฒนาและการผลิตจำนวนมาก นอกจากนี้ยังเป็นเครื่องมือที่มีประสิทธิภาพสูงสำหรับอุปกรณ์ต้นแบบที่ต้องการ nanopatterns พื้นที่ขนาดใหญ่ โดยเฉพาะอย่างยิ่งเมื่อเวลาตอบสนองที่รวดเร็วเป็นสิ่งสำคัญ

ข้อมูลพื้นฐาน

NANOPATTERNING ระดับเวเฟอร์: รุ่น HIL1000 มาตรฐานของเรารองรับการสร้าง nanopattern ระดับเวเฟอร์บนเวเฟอร์ขนาด 3 นิ้วด้วยการเปิดรับแสงเพียงครั้งเดียว ด้วยตัวเลือกการอัพเกรดโมดูลปรับขนาดรูปแบบของเรา พื้นที่การสร้างลวดลายสามารถขยายได้ถึง 4 นิ้วโดยมีความสม่ำเสมอสูงขึ้น

การสร้างลวดลายความละเอียดสูง

รุ่น HIL 1000 สามารถสร้างโครงสร้างนาโนที่มีขนาดคุณสมบัติต่ำกว่า 50 นาโนเมตร รูปแบบโฟโตเรซิสต์ในระดับนาโนเมตรที่มีโปรไฟล์สี่เหลี่ยมและอัตราส่วนภาพสูงสามารถเป็นประโยชน์ต่อกระบวนการที่ตามมา เช่น การกัดและการสะสม

การตั้งค่าขนาดกึ่งอัตโนมัติ

โมดูลการส่งมอบลำแสงที่ปรับตั้งค่าใหม่ได้อย่างรวดเร็วและแท่นวางตำแหน่งตัวอย่างแบบมอเตอร์ให้ความยืดหยุ่นอย่างมากในการสร้าง nanopatterns ที่มีขนาดและรูปทรงต่างๆ รวมถึงเส้น เสา รู หมากรุก แท่ง ฯลฯ

การปรับขนาดรูปแบบ
โมดูลปรับขนาดรูปแบบที่อัปเกรดได้สามารถปรับเปลี่ยนอัตราส่วนการเติมของโครงสร้าง 1D และ 2D ซึ่งจะช่วยปรับปรุงความสม่ำเสมอของรูปแบบและสร้างการกระจายเชิงพื้นที่ของขนาดคุณสมบัติที่ออกแบบตามอำเภอใจ

เทคนิคหลัก

• INTERFERENCE LITHOGRAPHY (IL)
  
• FAST-RECONFIGURABLE BEAM DELIVERY
  
• ACTIVE INTERFERENCE PATTERN STABILIZATION (AIPS)
  
• PRECISION OPTOMECHANICS
• AUTOMATIC SAMPLE POSITIONING