Sistem Nanopattern Skala Wafer Siri HIL

Penerangan Produk
Spesifikasi
Maklumat Asas

Sistem nanopattern HIL 1000 menampilkan fungsi berkuasa seperti keupayaan nanopattern skala wafer pukulan tunggal, penghantaran rasuk boleh dikonfigurasikan semula separa automatik, penstabilan corak gangguan aktif, dll. Semua ciri ini dikawal oleh perisian mesra pengguna proprietari kami
LithoPro. Sistem ini boleh menghasilkan struktur nano berkala sub-50-nm pada kawasan yang besar (sehingga wafer 4 inci, saiz yang lebih besar boleh dilaksanakan) dalam beberapa minit dengan
satu pendedahan tunggal. Pengguna boleh mengurangkan lagi saiz ciri kepada sub-20 nm dengan protokol pemprosesan nanofabrikasi tambahan yang tersedia daripada InterLitho. Medan pendedahan skala wafer boleh dicorakkan dengan struktur nano 1D atau 2D serba boleh dengan saiz berkala, kekisi dan ciri yang ditetapkan secara deterministik. Modul pilihan tersedia untuk fungsi lanjutan bercorak
modulasi saiz ciri dan simulasi proses litografi. HIL 1000 sesuai untuk mengeluarkan induk cetakan nano skala wafer berkualiti tinggi untuk R&D dan pengeluaran besar-besaran. Ia juga merupakan alat yang sangat produktif untuk
peranti prototaip yang menuntut corak nano kawasan besar, terutamanya apabila masa pemulihan yang cepat adalah kritikal.

Maklumat Asas

POLA NANO BERSKALA WAFER
Model HIL1000 standard kami menyokong skala wafer
corak nano pada wafer 3 inci dengan satu pendedahan tunggal. Dengan pilihan naik taraf modul modulasi saiz corak kami, kawasan corak boleh dipanjangkan kepada 4 inci dengan keseragaman yang lebih tinggi.

CORAK BERRESOLUSI TINGGI

Model HIL 1000 mampu menghasilkan struktur nano dengan saiz ciri di bawah 50 nm. Corak fotoresist dalam skala nanometer dengan profil segi empat tepat dan nisbah aspek yang tinggi boleh memberi manfaat kepada proses seterusnya seperti etsa dan
pemendapan.

TETAPAN DIMENSI SEPARUH AUTOMATIK

Modul penghantaran rasuk yang boleh dikonfigurasikan semula dengan pantas dan peringkat penentududukan sampel bermotor memberikan fleksibiliti yang hebat dalam menghasilkan corak nano pelbagai dimensi dan geometri,
termasuk garisan, tiang, lubang, papan dam, batang, dsb.

MODULASI SAIZ CORAK

Modul modulasi saiz corak boleh dinaik taraf boleh mengubah suai nisbah pengisian struktur 1D dan 2D, meningkatkan lagi keseragaman corak dan menghasilkan pengedaran spatial yang direka bentuk secara sewenang-wenang bagi saiz ciri


TEKNIK TERAS

LITOGRAFI GANGGUAN (IL)
PENGHANTARAN RASUK YANG BOLEH DIKONFIGURASI DENGAN PANTAS
PENSTABILAN CORAK GANGGUAN AKTIF (AIPS)
OPTOMEKANIK KEPRESINAN
KEDUDUKAN SAMPEL AUTOMATIK