RIE

ตัวกรอง(0)

EtchLab – 300 เป็นระบบ Reactive Ion Etching (RIE) สำหรับงานไมโครและนาโนแฟบริเคชัน รองรับการกัดผิว wafer และวัสดุต่าง ๆ ด้วย plasma ควบคุมความแม่นยำสูง เหมาะสำหรับมหาวิทยาลัยและห้องวิจัยเซมิคอนดักเตอร์

ติดต่อเรา
รายการโปรด
This website uses cookies for best user experience, to find out more you can go to our Privacy Policy และ Cookies Policy
Powered By MakeWebEasy Logo MakeWebEasy