RIE

พบสินค้า 1 ชิ้น

เรียงตาม

EtchLab – 300 เป็นระบบ Reactive Ion Etching (RIE) สำหรับงานไมโครและนาโนแฟบริเคชัน รองรับการกัดผิว wafer และวัสดุต่าง ๆ ด้วย plasma ควบคุมความแม่นยำสูง เหมาะสำหรับมหาวิทยาลัยและห้องวิจัยเซมิคอนดักเตอร์

ติดต่อเรา

รายการโปรด

เปรียบเทียบ