PVD Thin Film Deposition System（SVAC-FilmLab-T）

Tinjauan Produk - Teknologi PVD (Pemendapan Wap Fizikal)

Pengenalan Teknologi PVD:
Teknologi Pemendapan Wap Fizikal (PVD) merujuk kepada proses:

Penukaran permukaan bahan sumber (pepejal atau cecair) kepada:

Atom/molekul gas

Ion melalui pengionan separa

Proses pemendapan melalui medium gas bertekanan rendah atau plasma

Teknologi utama untuk pemendapan filem nipis berfungsi khas pada permukaan substrat

Ciri-ciri Teknikal:

Pelbagai Modul Pemendapan Terintegrasi:

Penyinaran elektron (electron beam)

Penyejatan terma (thermal evaporation)

Penyemburan magnetron (magnetron sputtering)

Boleh dikonfigurasikan mengikut keperluan khusus

Sistem Fleksibel & Boleh Disesuaikan:

Gabungan pelbagai teknik dalam satu platform

Sesuai untuk pelbagai jenis bahan sasaran

Membolehkan pelbagai lapisan filem nipis

Kelebihan Utama:

Kawalan ketebalan filem pada skala nano

Kualiti permukaan yang unggul

Lekatan filem yang sangat baik

Proses mesra alam tanpa bahan kimia berbahaya

Aplikasi Utama:
Industri semikonduktor & elektronik
Salutan optik & fotovoltaik
Lapisan fungsi khas (hiasan/perlindungan)
Penyelidikan bahan termaju
Komponen aeroangkasa & automotif

Kelebihan Penyelesaian Kami:
Reka bentuk modular untuk fleksibiliti maksimum
Ketepatan tinggi dalam kawalan proses
Penyepaduan pelbagai teknik pemendapan
Sesuai untuk aplikasi R&D dan pengeluaran

Untuk maklumat lanjut mengenai spesifikasi teknikal dan keupayaan sistem PVD kami, sila hubungi pasukan pakar kami.