PVD/PLD
We have found 6 items
Sort by
Sistem PVD/PLD yang direka khas untuk fabrikasi filem nipis, penyelidikan semikonduktor dan aplikasi mikro-nano. Boleh dikonfigurasi mengikut keperluan chamber, target dan automasi.
Pioneer 120 Advanced PLD System ialah sistem pemendapan filem nipis menggunakan teknologi Pulsed Laser Deposition, sesuai untuk penyelidikan bahan maju, semikonduktor dan fabrikasi mikro-nano.
Pioneer 180 PLD System ialah sistem pemendapan filem nipis menggunakan teknologi laser berketepatan tinggi, sesuai untuk penyelidikan bahan oksida, semikonduktor dan fabrikasi mikro-nano.
SVAC-FilmLab-G ialah sistem PVD dan sputtering berketepatan tinggi untuk fabrikasi filem nipis, penyelidikan semikonduktor dan aplikasi mikro-nano dalam makmal dan cleanroom.
SVAC-FilmLab-B ialah sistem PVD dan sputtering kompak yang direka untuk makmal universiti, penyelidikan semikonduktor dan fabrikasi mikro-nano dengan prestasi deposition yang stabil dan tepat.
SVAC-FilmLab-T ialah sistem PVD dan sputtering versi meja yang sesuai untuk makmal universiti dan penyelidikan bahan maju. Reka bentuk kompak dengan prestasi deposition yang stabil dan tepat.
MakeWebEasy