Pengenalan Teknologi NIL:
Nanoimprint Lithography (NIL) menawarkan kelebihan unggul berbanding teknologi nanopatterning sedia ada:
Resolusi corak <5nm (menggunakan acuan lembut)
Kelajuan pengeluaran tinggi
Kos efektif untuk pengeluaran berskala nano
Aplikasi merentasi pelbagai disiplin
Sistem PL-T oleh Prinano Technology:
- Reka bentuk meja atas ringan dan padat
- Multi-fungsi untuk universiti & makmal penyelidikan
- Sesuai untuk pelbagai substrat hingga 4 inci
- Sokongan 3 mod pencetakan :
1. Termal
2. Foto-pengerasan
3. Embossing
Ciri-ciri Utama:
Teknologi Paten untuk resolusi <5nm
Antaramuka mesra pengguna
Prestasi tinggi dengan berat ringan
Versatil untuk pelbagai jenis bahan
Penyelarasan tekanan automatik
Aplikasi Utama:
1. Optik & Display :
- Tatasusunan mikrolensa
- Kaca AR/VR
- Panel display
2. Bioteknologi :
- Peranti diagnostik mikro
- Scaffold tisu
3. Semikonduktor :
- Litar bersepaju termaju
- Peranti kuasa
4. Bahan Termaju :
- Struktur metamaterial
- Permukaan berfungsi khas