Sistem Ion Beam Etching (IBE) untuk Fabrikasi Mikro-Nano

Short Description

Sistem Ion Beam Etching (IBE) berketepatan tinggi untuk fabrikasi mikro-nano dan industri semikonduktor. Penyelesaian dry etching yang stabil, tepat dan sesuai untuk makmal serta pengeluaran industri.

Categories: Product, Products Labs, Micro-nano Fabrication, Ion Beam Etching (IBE Etching)

Product Description

Product Overview

Mesin IBE Ion Beam Etcher Sistem Ion Milling Mesin Etching Semikonduktor Peralatan ion beam etching Mesin dry etching Sistem fabrikasi semikonduktor Ion milling machine Peralatan mikro-nano fabrication

This website uses cookies for best user experience, to find out more you can go to our Privacy Policy and Cookies Policy

MakeWebEasy

Sistem Ion Beam Etching (IBE) untuk Fabrikasi Mikro-Nano

Related Products

Sistem Nanoimprint Roller Komposit

Sistem Nanoimprint Roller Komposit (Composite Roller Nanoimprint System)

Sistem Nanoimprint Nanometer Jenis Wafer-Stepping (Wafer-Stepping Nanometer Imprint System)

Sistem Nanoimprint Tahap Wafer untuk Industri Semikonduktor (Wafer Semiconductor-Level Nanoimprint System)