Sistem Nanoimprint Tekanan Vakum untuk Fabrikasi Mikro dan Nano Berketepatan Tinggi

Vacuum Pressure Nanoimprint System ialah mesin litografi nanoimprint berketepatan tinggi menggunakan teknologi vakum dan tekanan terkawal untuk menghasilkan corak nano yang konsisten dan bebas gelembung. Sesuai untuk aplikasi semikonduktor, fotonik dan MEMS.

Categories : Product , Products Fabs , Micro-nano Fabrication , Nanoimprint machine , Products Labs , Micro-nano Fabrication , Nanoimprint machine

Product Description

Technical information

Keseluruhan Produk

Teknologi Nanoimprint dengan kaedah tekanan plat, tekanan udara, dan tekanan gulung yang disesuaikan dengan pelbagai industri dan aplikasi produk. Contohnya:
- Tekanan plat: semikonduktor kelas tinggi, kanta mikro, penyambungan templat, keperluan penjajaran ketepatan tinggi
- Tekanan udara: PSS, AR, bioperubatan, fotovoltaik, MLA, Meta Lens
- Tekanan gulung: AR, optik pembelauan, relief permukaan

Mesin Nanoimprint Vakum Sistem Litografi Nanoimprint Peralatan Fabrikasi Nano High Pressure Nano Patterning System Mesin nanoimprint industri Nanoimprint lithography system Peralatan fabrikasi semikonduktor Mesin pembuatan corak nano UV nanoimprint machine

Sistem Nanoimprint Tekanan Vakum untuk Fabrikasi Mikro dan Nano Berketepatan Tinggi

Related Products

Sistem Confocal Micro Raman & Photoluminescence (PL) Off-Line untuk QC, QA, Failure Analysis dan R&D

Sistem Pemanasan dan Bias Elektrik In-Situ untuk Mikroskop Elektron (SEM/TEM)

Cip dan Pemegang Pemanasan In-Situ untuk Analisis Terma SEM dan TEM

Sistem AFM In-Situ Dalam SEM untuk Pencirian Permukaan Mikro dan Nano