Nanoimprint machine
We have found 6 items
Sort by
Vacuum Pressure Nanoimprint System ialah mesin litografi nanoimprint berketepatan tinggi menggunakan teknologi vakum dan tekanan terkawal untuk menghasilkan corak nano yang konsisten dan bebas gelembung. Sesuai untuk aplikasi semikonduktor, fotonik dan MEMS.
Fully Automatic Pneumatic Nanoimprint System ialah mesin litografi nanoimprint automatik dengan kawalan tekanan pneumatik untuk penghasilan corak nano berketepatan tinggi. Sesuai untuk aplikasi semikonduktor, fotonik, MEMS dan pengeluaran industri mikro-nano.
Sistem nanoimprint desktop tekanan udara direka untuk pemindahan corak mikro dan nano pada permukaan bahan. Sesuai untuk penyelidikan nanoteknologi, fabrikasi semikonduktor, serta pembangunan bahan maju dalam makmal dan industri.
Sistem nanoimprint tahap wafer direka untuk pemindahan corak nano berketepatan tinggi pada wafer semikonduktor. Sesuai untuk fabrikasi mikro-nano, pembuatan semikonduktor dan penyelidikan nanoteknologi yang memerlukan replikasi struktur nano dengan ketepatan tinggi.
Sistem nanoimprint nanometer jenis wafer-stepping direka untuk menghasilkan corak nano berketepatan tinggi pada wafer semikonduktor. Sesuai untuk fabrikasi mikro-nano, pembuatan peranti semikonduktor, dan penyelidikan nanoteknologi.
Sistem nanoimprint roller komposit direka untuk pemindahan corak nano secara berterusan menggunakan teknologi roll-to-roll nanoimprint lithography. Sesuai untuk pembuatan elektronik fleksibel, filem optik, dan fabrikasi mikro-nano berskala besar.
MakeWebEasy