PVD Thin Film Deposition System（SVAC-FilmLab-B）

Gambaran Produk :
Teknologi PVD (Physical Vapor Deposition)

Pengenalan Teknologi PVD:
Teknologi PVD (Physical Vapor Deposition) merupakan proses termaju untuk pemendapan filem nipis yang melibatkan:

Penukaran bahan sumber (pepejal/cecair) kepada:
Atom atau molekul gas

Ion melalui pengionan separa

Proses pemendapan dalam persekitaran gas bertekanan rendah atau plasma

Teknologi utama untuk aplikasi filem nipis berfungsi khas pada permukaan substrat

Ciri-ciri Teknikal Utama:

Modul Pemendapan Pelbagai:

Penyepaduan pelbagai teknik dalam satu sistem:

Electron Beam Evaporation

Thermal Evaporation

Magnetron Sputtering

Fleksibiliti tinggi untuk pelbagai keperluan aplikasi

Sistem Kawalan Termaju:

Antaramuka PLC/Touch Screen moden

Kawalan automatik semua parameter proses

Sistem pemantauan masa nyata (real-time)

Kelebihan Sistem:

Ketebalan filem tepat pada skala nano

Lekatan filem yang sangat baik

Kualiti permukaan tinggi

Proses mesra alam tanpa bahan kimia berbahaya

Aplikasi Industri:

Pembuatan semikonduktor & komponen elektronik

Salutan optik dan fotovoltaik

Lapisan fungsi khas (hard coating, decorative coating)

Penyelidikan bahan termaju

Industri aeroangkasa dan automotif

Kelebihan Penyelesaian Kami:
Reka bentuk modular untuk penyesuaian optimum
Integrasi pelbagai teknik pemendapan
Sistem kawalan automatik berketepatan tinggi
Penyelesaian lengkap dari R&D hingga pengeluaran

Untuk maklumat lanjut mengenai spesifikasi teknikal dan keupayaan sistem PVD kami, sila hubungi pasukan pakar kami.