Sistem nanoimprint desktop tekanan udara direka untuk pemindahan corak mikro dan nano pada permukaan bahan. Sesuai untuk penyelidikan nanoteknologi, fabrikasi semikonduktor, serta pembangunan bahan maju dalam makmal dan industri.
Pengenalan Teknologi NIL:
Nanoimprint Lithography (NIL) menawarkan kelebihan unggul berbanding teknologi nanopatterning sedia ada:
Resolusi corak <5nm (menggunakan acuan lembut)
Kelajuan pengeluaran tinggi
Kos efektif untuk pengeluaran berskala nano
Aplikasi merentasi pelbagai disiplin
Sistem PL-T oleh Prinano Technology:
- Reka bentuk meja atas ringan dan padat
- Multi-fungsi untuk universiti & makmal penyelidikan
- Sesuai untuk pelbagai substrat hingga 4 inci
- Sokongan 3 mod pencetakan :
1. Termal
2. Foto-pengerasan
3. Embossing
Ciri-ciri Utama:
Teknologi Paten untuk resolusi <5nm
Antaramuka mesra pengguna
Prestasi tinggi dengan berat ringan
Versatil untuk pelbagai jenis bahan
Penyelarasan tekanan automatik
Aplikasi Utama:
1. Optik & Display :
- Tatasusunan mikrolensa
- Kaca AR/VR
- Panel display
2. Bioteknologi :
- Peranti diagnostik mikro
- Scaffold tisu
3. Semikonduktor :
- Litar bersepaju termaju
- Peranti kuasa
4. Bahan Termaju :
- Struktur metamaterial
- Permukaan berfungsi khas