PVD Thin Film Deposition System รุ่น SVAC-FilmLab-T ระบบเคลือบฟิล์มบางแบบตั้งโต๊ะ (Tabletop) สำหรับงานวิจัยและพัฒนา

SVAC-FilmLab-T คือระบบ PVD Thin Film Deposition แบบตั้งโต๊ะ เหมาะสำหรับห้องปฏิบัติการ มหาวิทยาลัย และงานวิจัยวัสดุ รองรับกระบวนการ sputtering ในแพลตฟอร์มขนาดกะทัดรัด ใช้งานง่าย และประหยัดพื้นที่

หมวดหมู่ : Product , Products Labs , Micro-nano Fabrication , PVD/PLD

รายละเอียดสินค้า

วีดีโอ

ภาพรวมผลิตภัณฑ์

ระบบการสะสมฟิล์มบางด้วยเทคโนโลยี PVD (SVAC-FilmLab-T)
เทคโนโลยี Physical Vapor Deposition (PVD) หมายถึงกระบวนการที่พื้นผิวของแหล่งวัสดุ (ของแข็งหรือของเหลว) ถูกทำให้กลายเป็นอะตอมหรือโมเลกุลในสถานะก๊าซ หรือถูกทำให้แตกตัวเป็นไอออนบางส่วน และผ่านกระบวนการก๊าซความดันต่ำ (หรือพลาสมา) เทคโนโลยี PVD เป็นหนึ่งในเทคโนโลยีหลักของการเคลือบผิวเพื่อสะสมฟิล์มบางที่มีคุณสมบัติพิเศษบนพื้นผิวของวัสดุฐาน

ลักษณะทางเทคนิค

สามารถรวมโมดูลการสะสมหลายประเภท เช่น

การระเหยด้วยลำแสงอิเล็กตรอน (Electron Beam)
การระเหยด้วยความร้อน (Thermal Evaporation)
การพ่นด้วยแม่เหล็ก (Magnetron Sputtering)

การประยุกต์ใช้งาน
เทคโนโลยี PVD ถูกใช้อย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมต่างๆ เช่น

การผลิตเซมิคอนดักเตอร์
การเคลือบชิ้นส่วนเครื่องจักรเพื่อเพิ่มความทนทาน
การผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์และออปโตอิเล็กทรอนิกส์
การเคลือบเพื่อป้องกันการกัดกร่อนและการสึกหรอ

ข้อดีของระบบ PVD

ความสามารถในการควบคุมความหนาของฟิล์มบางได้อย่างแม่นยำ
ความสามารถในการเคลือบวัสดุได้หลากหลายชนิด
ให้ฟิล์มที่มีความสม่ำเสมอและคุณภาพสูง
สามารถทำงานในสภาพแวดล้อมสุญญากาศเพื่อป้องกันการปนเปื้อน

สรุป
ระบบ SVAC-FilmLab-T เป็นระบบ PVD ที่ออกแบบมาเพื่อการสะสมฟิล์มบางที่มีคุณภาพสูง ด้วยความสามารถในการรวมโมดูลการสะสมที่หลากหลาย ทำให้ระบบนี้เหมาะสำหรับการใช้งานในห้องปฏิบัติการและอุตสาหกรรมที่ต้องการความยืดหยุ่นและประสิทธิภาพสูง

SVAC-FilmLab-T Tabletop PVD System เครื่อง Sputtering ขนาดเล็ก ระบบเคลือบฟิล์มบางตั้งโต๊ะ เครื่อง PVD ขนาดเล็ก Tabletop sputtering system เครื่องเคลือบฟิล์มบางสำหรับมหาวิทยาลัย PVD สำหรับงานวิจัย เครื่อง deposition แบบตั้งโต๊ะ