High-Precision Double-Sided Alignment Roller Nanoimprint System
Sistem Nanoimprint Roller dengan penjajaran dua sisi berketepatan tinggi untuk aplikasi substrat fleksibel, filem optik, fotonik dan pembuatan Micro-LED. Direka untuk fabrikasi nano berskala besar.
Gambaran Keseluruhan Produk
Sistem cetakan nano canggih ini menawarkan penjajaran dua sisi yang tepat menggunakan kaedah cetakan berasaskan roller, memenuhi keperluan pembuatan berketepatan tinggi
Ciri-ciri Produk:
Saiz Fabrikasi Maksimum 12in, Serasi Ke Bawah
Menyesuaikan diri dengan Pelbagai Bentuk Contoh
Kaedah Penjajaran: Automatik Sepenuhnya
Sangat Boleh Disesuaikan untuk Pembuatan Pandu Gelombang Optik Diffractive AR
Kaedah Mencetak: Mencetak Roller
Senario Berkenaan: Penyelidikan dan Pembangunan, Pengeluaran
Modul Tersuai:
Peringkat Wafer Boleh Disesuaikan
Proses Cetakan Boleh Disesuaikan
Ketepatan Penjajaran: < ±5µm
Kaedah Penjajaran: Automatik Sepenuhnya
Related Products
Sistem Nanoimprint Roller Komposit
Sistem Nanoimprint Roller Komposit (Composite Roller Nanoimprint System)
Sistem Nanoimprint Nanometer Jenis Wafer-Stepping (Wafer-Stepping Nanometer Imprint System)
Sistem Nanoimprint Tahap Wafer untuk Industri Semikonduktor (Wafer Semiconductor-Level Nanoimprint System)
MakeWebEasy