High Concentration Ozone Water Machine สำหรับกระบวนการทำความสะอาดในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ใช้สำหรับการกำจัดสารปนเปื้อนบนพื้นผิวเวเฟอร์และชิ้นงาน ด้วยน้ำโอโซนความเข้มข้นสูง ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพในการทำความสะอาดและลดการใช้สารเคมีในกระบวนการผลิต