Pioneer 120 Advanced PLD System Sistem Pulsed Laser Deposition Berketepatan Tinggi
Short Description
Pioneer 120 Advanced PLD System ialah sistem pemendapan filem nipis menggunakan teknologi Pulsed Laser Deposition, sesuai untuk penyelidikan bahan maju, semikonduktor dan fabrikasi mikro-nano.
Wishlist
Compare
Product Description
Specifications
Tinjauan Produk :
Sistem PLD
Rekaan Inovatif Berasaskan Pengalaman Unggul
menjalankan penyelidikan ekstensif menggunakan teknologi PLD untuk menentukan parameter kritikal dalam mencapai kualiti filem, terutamanya untuk pemendapan filem oksida kompleks. Pertimbangan ini telah diaplikasikan dalam reka bentuk sistem Pioneer.
Ciri-Ciri Utama:
Kawalan Tekanan Oksigen Tinggi
Semua sistem Pioneer menawarkan julat tekanan dari vakum awal sehingga tekanan atmosfera (>100 Torr)
Membolehkan penyejukan filem pada tekanan oksigen tinggi untuk kualiti lebih baik
Juga sesuai untuk penghasilan nanopartikel
Rekaan Optik Optimum
Sudut kejadian sinar laser 45° mengekalkan ketumpatan laser seragam merentas sasaran
Mengelakkan penggunaan optik kompleks dan mahal
Sudut lebih besar akan mengurangkan keseragaman ketumpatan
Sistem Pam Bebas Minyak
Dilengkapi standard dengan sistem pam bebas minyak
Mengelakkan kesan aliran balik minyak pada kualiti filem
Tidak memerlukan pam vakum yang serasi dengan oksigen mahal
Kawalan Jarak Sasaran-Substrat
Penyelidikan kami menunjukkan jarak antara sasaran dan substrat adalah parameter kritikal
Sistem Pioneer mengawal jarak ini untuk mencapai keadaan pemendapan optimum
Arah Aplikasi:
Pulsed Laser Deposition (PLD) ialah teknik pemendapan filem nipis yang:
Menggunakan laser berdenyut untuk menyejat sasaran dengan pantas
Menghasilkan filem nipis yang sama komposisi dengan sasaran
Sumber tenaga (laser berdenyut) terletak di luar kebuk vakum
Julat tekanan kerja yang sangat luas (10¹ Torr hingga 100 Torr)
Teknologi "digital" yang membolehkan kawalan proses pada skala nano (Å/pulse)
Penyelesaian Lengkap dari Neocera:
Pengalaman luas dalam pembangunan peralatan dan proses PLD
Sistem PLD siri Pioneer digunakan secara meluas dalam R&D global
Menawarkan bukan sahaja sistem PLD asas
Tetapi juga penyelesaian lengkap turnkey untuk makmal PLD
Aplikasi Utama:
Sintesis nanostruktur dan nanopartikel berfungsi unik
Pemendapan filem oksida kompleks berkualiti tinggi
Penyelidikan bahan termaju
Pembangunan peranti nanoelektronik
komited untuk menyediakan penyelesaian PLD yang paling maju dan boleh disesuaikan untuk memenuhi keperluan penyelidikan terkini.
Sistem PLD
Rekaan Inovatif Berasaskan Pengalaman Unggul
menjalankan penyelidikan ekstensif menggunakan teknologi PLD untuk menentukan parameter kritikal dalam mencapai kualiti filem, terutamanya untuk pemendapan filem oksida kompleks. Pertimbangan ini telah diaplikasikan dalam reka bentuk sistem Pioneer.
Ciri-Ciri Utama:
Kawalan Tekanan Oksigen Tinggi
Semua sistem Pioneer menawarkan julat tekanan dari vakum awal sehingga tekanan atmosfera (>100 Torr)
Membolehkan penyejukan filem pada tekanan oksigen tinggi untuk kualiti lebih baik
Juga sesuai untuk penghasilan nanopartikel
Rekaan Optik Optimum
Sudut kejadian sinar laser 45° mengekalkan ketumpatan laser seragam merentas sasaran
Mengelakkan penggunaan optik kompleks dan mahal
Sudut lebih besar akan mengurangkan keseragaman ketumpatan
Sistem Pam Bebas Minyak
Dilengkapi standard dengan sistem pam bebas minyak
Mengelakkan kesan aliran balik minyak pada kualiti filem
Tidak memerlukan pam vakum yang serasi dengan oksigen mahal
Kawalan Jarak Sasaran-Substrat
Penyelidikan kami menunjukkan jarak antara sasaran dan substrat adalah parameter kritikal
Sistem Pioneer mengawal jarak ini untuk mencapai keadaan pemendapan optimum
Arah Aplikasi:
Pulsed Laser Deposition (PLD) ialah teknik pemendapan filem nipis yang:
Menggunakan laser berdenyut untuk menyejat sasaran dengan pantas
Menghasilkan filem nipis yang sama komposisi dengan sasaran
Sumber tenaga (laser berdenyut) terletak di luar kebuk vakum
Julat tekanan kerja yang sangat luas (10¹ Torr hingga 100 Torr)
Teknologi "digital" yang membolehkan kawalan proses pada skala nano (Å/pulse)
Penyelesaian Lengkap dari Neocera:
Pengalaman luas dalam pembangunan peralatan dan proses PLD
Sistem PLD siri Pioneer digunakan secara meluas dalam R&D global
Menawarkan bukan sahaja sistem PLD asas
Tetapi juga penyelesaian lengkap turnkey untuk makmal PLD
Aplikasi Utama:
Sintesis nanostruktur dan nanopartikel berfungsi unik
Pemendapan filem oksida kompleks berkualiti tinggi
Penyelidikan bahan termaju
Pembangunan peranti nanoelektronik
komited untuk menyediakan penyelesaian PLD yang paling maju dan boleh disesuaikan untuk memenuhi keperluan penyelidikan terkini.
Powered By
MakeWebEasy
MakeWebEasy