ALD atomic layer deposition system (ultra-high vacuum series)

Sistem Pemendapan Lapisan Atom

Sistem ALD (Pemendapan Lapisan Atom) menyediakan pembentukan dan pertumbuhan filem dengan ketepatan pada tahap atom di atas struktur mikro-nano 3D yang kompleks.

Teknologi ini membolehkan filem seragam, berkepadatan tinggi, dan sepadan dengan bentuk permukaan, sesuai untuk pelbagai bidang termasuk

Aplikasi

• Nanomaterials High uniformity nanoscale films for MEMS, dielectric layers, hydrophobic/biocompatible coatings.

• Solar Cells AlO passivation layer improves c-Si solar cell efficiency.

• Catalysis Core-shell, oxide/heterogeneous catalysts, single-atom catalysts, bimetallic nanocatalysts.

• Lithium Batteries Separator coatings, cathode/anode protective layers, dendrite suppression, artificial SEI.

• Optical Coatings High-density films on complex geometries, better than PVD for advanced optical devices.

• Biomedical Dense protective coatings on implants, drug particle encapsulation, regenerative medicine substrates.

• OLED/LED Nano encapsulation films for flexible OLED packaging, improved LED passivation.

Spesifikasi

• Dielektrik Keupayaan Tinggi (AlO, ZrO, TaO, dll.), sambungan logam (Cu, Ru, TaN), bahan pemangkin (Pt, Ir, Co, TiO), salutan bioperubatan (TiN, ZrN, TiAlN), bahan piezoelektrik (ZnO, AlN), pengalir telus (ITO, ZnO:Al), kristal fotonik.

• Kabinet (Cabinet):
• Rangka aluminium, cangkerang keluli karbon bersalut cat.

• PLC + komputer industri, sistem interlock.

• Perisian Operasi (Operation Software):
• Fungsi keselamatan, konfigurasi parameter, interlock IO, pengurusan hak pengguna.