5 āļœāļĨāļĨāļąāļžāļ˜āđŒāļŠāļģāļŦāļĢāļąāļšāđāļ—āđ‡āļ "Nanoimprint lithography system"
āļŠāļīāļ™āļ„āđ‰āļē (5)
āļĢāļ°āļšāļšāļ™āļēāđ‚āļ™āļ­āļīāļĄāļžāļĢāļīāđ‰āļ™āļ—āđŒāđāļšāļšāļŠāļļāļāļāļēāļāļēāļĻāđāļĢāļ‡āļ”āļąāļ™āļŠāļđāļ‡ (Vacuum Pressure Nanoimprint System) āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļšāļ‡āļēāļ™āđ„āļĄāđ‚āļ„āļĢ-āļ™āļēāđ‚āļ™āđāļŸāļšāļĢāļīāđ€āļ„āļŠāļąāļ™
āļĢāļ°āļšāļšāļ™āļēāđ‚āļ™āļ­āļīāļĄāļžāļĢāļīāđ‰āļ™āļ—āđŒāđāļšāļšāļ•āļąāđ‰āļ‡āđ‚āļ•āđŠāļ°āļŠāļ™āļīāļ”āđāļĢāļ‡āļ”āļąāļ™āļ­āļēāļāļēāļĻ (Air Pressure Desktop Nanoimprint System)
āļĢāļ°āļšāļšāļ™āļēāđ‚āļ™āļ­āļīāļĄāļžāļĢāļīāđ‰āļ™āļ—āđŒāļĢāļ°āļ”āļąāļšāđ€āļ§āđ€āļŸāļ­āļĢāđŒāļŠāļģāļŦāļĢāļąāļšāļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄāđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒ (Wafer Semiconductor-Level Nanoimprint System)
āļĢāļ°āļšāļšāļ™āļēāđ‚āļ™āļ­āļīāļĄāļžāļĢāļīāđ‰āļ™āļ—āđŒāđāļšāļšāļĨāļđāļāļāļĨāļīāđ‰āļ‡āļ„āļ­āļĄāđ‚āļžāļŠāļīāļ• (Composite Roller Nanoimprint System)
āļĢāļ°āļšāļšāļ™āļēāđ‚āļ™āļ­āļīāļĄāļžāļĢāļīāđ‰āļ™āļ—āđŒāđāļšāļšāļĨāļđāļāļāļĨāļīāđ‰āļ‡āļ„āļ­āļĄāđ‚āļžāļŠāļīāļ• (Composite Roller Nanoimprint System)
This website uses cookies for best user experience, to find out more you can go to our Privacy Policy āđāļĨāļ° Cookies Policy
Powered By MakeWebEasy Logo MakeWebEasy