Sistem PLD Siri Pioneer

Gambaran Produk :


Rekabentuk Inovatif Berasaskan Pengalaman Terbaik
menjalankan penyelidikan mendalam menggunakan teknologi PLD untuk menetapkan parameter kritikal dalam mencapai kualiti filem, terutamanya untuk pemendapan filem oksida kompleks. Pertimbangan ini telah diaplikasikan dalam rekabentuk sistem Pioneer.

Ciri-ciri Utama:

Sistem Tekanan Oksigen Tinggi

Membolehkan penyejukan filem pada tekanan oksigen tinggi (>100 Torr)

Julat tekanan dari vakum awal hingga tekanan atmosfera

Juga sesuai untuk penghasilan nanopartikel

Optik Laser Optimum

Sudut kejadian laser 45° mengekalkan keseragaman ketumpatan laser

Mengelakkan penggunaan optik kompleks dan mahal

Sudut lebih besar mengurangkan keseragaman spot laser

Sistem Pam Bebas Minyak

Dilengkapi standard dengan sistem pam bebas minyak

Mengelakkan pencemaran minyak pada kualiti filem

Tidak memerlukan pam vakum serasi oksigen yang mahal

Kawalan Jarak Sasaran-Substrat

Jarak antara sasaran dan substrat ialah parameter kritikal

Sistem Pioneer mengawal jarak untuk pemendapan optimum

Arah Aplikasi:
Pulsed Laser Deposition (PLD) ialah teknik pemendapan filem nipis yang:

Menggunakan laser berdenyut untuk penyejatan sasaran pantas

Menghasilkan filem dengan komposisi sama seperti sasaran

Sumber tenaga (laser) berada di luar kebuk vakum

Julat tekanan kerja sangat luas (10¹ hingga 100 Torr)

Teknologi "digital" dengan kawalan proses pada skala nano (Å/pulse)

Penyelesaian Lengkap Neocera:

Pengalaman luas dalam pembangunan peralatan dan proses PLD

Sistem PLD Siri Pioneer digunakan secara global dalam R&D

Menawarkan bukan sekadar sistem PLD asas

Tetapi penyelesaian lengkap turnkey untuk makmal PLD

Aplikasi Utama:

Sintesis nanostruktur dan nanopartikel berfungsi unik

Pemendapan filem oksida kompleks berkualiti tinggi

Penyelidikan bahan termaju

Pembangunan peranti nanoelektronik

komited dalam menyediakan penyelesaian PLD terkini dan boleh disesuaikan untuk memenuhi keperluan penyelidikan moden.